Occasion LAM RESEARCH 4420 XL #9173005 à vendre en France

LAM RESEARCH 4420 XL est un graveur/asher de pointe conçu pour la culture et le traitement de matériaux semi-conducteurs. LAM RESEARCH 4420XL dispose d'une chambre de procédé avancée dont la vitesse de gravure peut atteindre 340 nm/min et qui permet d'atteindre une température maximale de 400 ° C Cela permet une gravure rapide et efficace des matériaux semi-conducteurs. De plus, 4420 XL dispose d'un système de mesure in situ unique intégré dans la chambre qui fournit des données en temps réel et des commentaires sur l'avancement du processus de gravure ou de cueillette. Le système dispose également d'une interface de surveillance et de contrôle améliorée qui permet un fonctionnement plus précis et précis. 4420XL est particulièrement bien adapté aux procédés de gravure et de gravure des métaux, par lesquels des motifs de structures métalliques précises sont formés sur un substrat. L'ensemble du processus est hautement automatisé, et LAM RESEARCH 4420 XL peut traiter jusqu'à 400 plaquettes en une seule fois, à des vitesses allant jusqu'à 50 plaquettes/heure, grâce à son système de refroidissement avancé et à des ensembles de fonctionnalités adaptés. Le chargement et le déchargement automatisés des substrats sont également autorisés par les manutentionnaires automatisés de cassettes. LAM RESEARCH 4420XL dispose également d'une suite complète de modules de contrôle de processus qui permettent un contrôle précis du processus de gravure et d'ashing. En plus de la gravure et du cendrage standard, le 4420 XL possède également une caractéristique unique de post-gravure qui permet d'enlever sélectivement une couche de matériau oxydé de la surface du semi-conducteur sans perturber les couches sous-jacentes. Ceci est particulièrement utile dans la formation de structures métalliques multicouches qui sont utilisées régulièrement dans la production industrielle. Dans l'ensemble, 4420XL est un graveur/asher avancé qui est conçu pour la culture et le traitement des matériaux semi-conducteurs. Il est capable d'atteindre un débit élevé avec une grande précision et possède des caractéristiques uniques qui le rendent particulièrement adapté aux procédés semi-conducteurs avancés.