Occasion LAM RESEARCH 4420 #199860 à vendre en France
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ID: 199860
Taille de la plaquette: 8"
TCP oxide etch system, 8"
Can be converted to 6"
Mounting: bulkhead
Software: Envision 1.52
Indexers: HINE
AC box: -002
Gas box: orbital welded
Clamping: non-clamp
Backside helium: n/a
Generator: OEM 650
RF match: mini match
Endpoint: endpoint detector
MFCs: unit 1660
Gas config:
Gas 1: HBR 200
Gas 2: CL2 200
Gas 3: SF6 500
Gas 4: C2F6 500
Gas 5: HE 500
Gas 6: O2 100.
LAM RESEARCH 4420 est un graveur/asher conçu pour les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de gravure. Il dispose de quatre chambres simultanées, qui permettent aux utilisateurs d'effectuer deux gravures et deux dépôts, pour une opération de traitement chimique efficace. Ce modèle convient à un large éventail de procédés de gravure et de dépôt, y compris les métaux, les plastiques, la céramique et les adhésifs. 4420 offre une interface polyvalente et conviviale, permettant aux utilisateurs de programmer, surveiller et contrôler facilement l'équipement. LAM RESEARCH 4420 etcher/asher est équipé de chambres annulaires à double compartiment et d'alimentations RF/DC, permettant aux utilisateurs de générer une variété de caractéristiques de plasma pour répondre à leurs besoins d'application. La chambre a la capacité d'accueillir des plaquettes de plus de 6 ", permettant une plus grande surface de dépôt. Le modèle a une capacité de température allant jusqu'à 450 ° C et peut être utilisé avec une gamme de gaz de procédé, y compris Ar, N2, Oxygène, SF6 et CH4. Le modèle est conçu avec une chambre de verrouillage de charge, permettant le chargement et le déchargement automatique des plaquettes de la chambre. Cette fonctionnalité permet de réduire les temps de chargement et de déchargement, et améliore la productivité. 4420 dispose également d'un système unique à deux machines, permettant de traiter deux lots de plaquettes indépendamment avec des recettes distinctes. Cela donne aux opérateurs plus de contrôle et crée plus de flexibilité pour leurs besoins de production. LAM RESEARCH 4420 est alimenté par la suite logicielle LAM RESEARCH Process Expert Unit (XPES), conçue pour simplifier le fonctionnement de la machine. Les utilisateurs peuvent facilement programmer et surveiller leurs processus grâce au logiciel XPES, leur donnant le contrôle de leurs recettes, temps de configuration et conditions de processus. XPES fournit également une gamme de capacités de diagnostic et de reporting, permettant aux utilisateurs d'identifier rapidement tout problème d'outil et de les dépanner en conséquence. Le logiciel XPES est également compatible avec une gamme de formats de données et de systèmes d'exploitation standard de l'industrie, ce qui en fait un atout idéal pour l'intégration dans un réseau existant. 4420 est conçu pour fournir une solution de gravure et de dépôt fiable et facile à programmer et à contrôler. Les chambres à double chambre et à haute efficacité offrent aux utilisateurs une grande variété d'options et prennent en charge un large éventail d'applications. La suite logicielle XPES conviviale simplifie le fonctionnement du modèle et permet aux utilisateurs d'identifier rapidement tous les problèmes, en répondant rapidement et avec des résultats de haute qualité.
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