Occasion LAM RESEARCH 4420 #9145514 à vendre en France

LAM RESEARCH 4420
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
4420
ID: 9145514
Taille de la plaquette: 8"
Poly silicon etchers, 8".
LAM RESEARCH 4420 Asher/Etcher est un puissant équipement de gravure de production à haut rendement conçu pour traiter rapidement et avec précision divers matériaux d'échantillons. Ce système utilise un procédé de gravure plasma avancé pour créer des motifs de circuit précis sur une gamme de substrats tout en fournissant des performances fiables et des taux de dépôt élevés. La 4420 est équipée d'un double jigs et couvercle src, permettant aux utilisateurs de basculer rapidement entre plusieurs substrats pendant le fonctionnement. Cette unité de gravure est conçue avec un certain nombre de fonctionnalités intelligentes disponibles pour assurer une précision et une qualité de gravure optimales, telles que le mouvement motorisé des plaquettes, un étage de levage hydrodynamique, et une capacité de carte météo automatisée. En outre, LAM RESEARCH 4420 Etcher/Etch machine offre aux utilisateurs une large gamme de fonctionnalités pour leur donner la précision, le contrôle et la répétabilité dont ils ont besoin pour la fabrication rapide de composants. 4420 Etcher/Asher utilise une technologie très puissante pour une gravure propre et précise à haut débit. Cette technologie combine un adaptateur de gravure à haut rendement avec une nouvelle technologie de plasma à haute énergie pour donner aux utilisateurs le meilleur des deux mondes - des taux de dépôt élevés et de faibles dommages matériels. LAM RESEARCH 4420 est conçu pour tirer le meilleur parti de sa nouvelle technologie plasma, produisant des résultats de gravure de haute performance en une fraction du temps. La source de plasma peut être réglée au laser selon des paramètres qui donneront différents résultats de processus de gravure, contribuant à la polyvalence de 4420. L'étage de levage hydrodynamique intégral du dispositif LAM RESEARCH 4420 est conçu pour donner aux utilisateurs plus de contrôle sur le temps de gravure du fond de la chambre. L'étage de levage hydrodynamique adaptable fonctionne avec une conception de roue tournante, permettant aux utilisateurs d'ajuster le temps de gravure en fonction des besoins de leur échantillon spécifique. En outre, 4420 a été conçu avec une variété de capacités de tableau météorologique automatisé, donnant aux utilisateurs le contrôle total sur les paramètres de pression lors de la gravure. De plus, l'outil LAM RESEARCH 4420 est également équipé de logiciels avancés qui peuvent être utilisés pour l'optimisation des gravures, ainsi que le suivi de la cohérence des processus. L'interface utilisateur intuitive de ce logiciel permet aux utilisateurs de percer rapidement les paramètres du processus de gravure et d'apporter des modifications au besoin. Avec l'aide de ces outils, les utilisateurs sont en mesure d'analyser et de dépanner rapidement tous les problèmes qui pourraient surgir pendant le fonctionnement du processus. Dans l'ensemble, 4420 Etcher/Asher est un outil de gravure puissant et à haut rendement qui peut fournir aux utilisateurs la vitesse, la précision et la précision dont ils ont besoin pour une fabrication rapide. Grâce à sa technologie de pointe et à son ascenseur hydrodynamique polyvalent, LAM RESEARCH 4420 est un choix idéal pour tout travail de gravure de production.
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