Occasion LAM RESEARCH 4420i #9043961 à vendre en France

LAM RESEARCH 4420i
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
4420i
ID: 9043961
Taille de la plaquette: 5"
Poly etcher, 5".
LAM RESEARCH 4420i Asher est un équipement de gravure polyvalent conçu pour des motifs de plaquettes complexes. Il s'agit d'une plate-forme capable de remplacer les chimiographies à gravures multiples et les configurations des graveurs, permettant une variété d'applications. Il dispose d'une chambre longue, permettant de plus grandes plaquettes avec des motifs plus complexes, plus une large gamme de tailles de masques. Le système de distribution de gaz combiné de pointe de 4420i et l'adaptation uniforme de la puissance RF assurent un contrôle précis et répétable des processus, tandis que sa capacité indépendante de mélange des gaz permet une flexibilité de processus particulièrement élevée. LAM RESEARCH 4420i est capable de réaliser à la fois des processus de graveurs humides et secs. Une grande variété de procédés de gravure humide sont supportés, avec des accessoires optionnels tels que le quartz et les supports céramiques pour une gamme encore plus large d'applications de gravure. Avec son protocole d'adaptation de puissance RF de pointe, 4420i permet une répétabilité et un contrôle précis de la profondeur de gravure. LAM RESEARCH 4420i est équipé d'une serrure à haute vitesse, permettant le chargement et le déchargement rapides des plaquettes dans une atmosphère sûre et inerte. Une source de cristal à couplage cathodique de pointe assure une vitesse de gravure incroyablement constante sur l'ensemble de la plaquette. De plus, 4420i est capable de supporter des processus à haute et basse température, atteignant des températures allant jusqu'à 550 ° C pour des applications comme la polymérisation de la pâte d'acroléine. LAM RESEARCH 4420i est alimenté par l'unité exclusive FABIS-P de LAM RESEARCH, permettant un contrôle de processus très précis. En équilibrant automatiquement les paramètres du processus tels que la puissance, la température, la pression du gaz et le temps de traitement, FABIS-P s'assure que les processus sont aussi cohérents que possible d'une plaquette à l'autre. La machine peut également être réglée pour répondre à des exigences de processus spécifiques, ce qui conduit à des processus de gravure très précis. En assurant un processus très fiable, 4420i offre d'autres caractéristiques telles que l'isolation de cloche en quartz, les zones de chauffage indépendantes, le mélange processus-gaz, et le chargement flexible de motifs de plaquettes. Sa longue chambre à quartz assure que chaque centimètre de la surface de gravure est exposé aux mêmes paramètres de gravure, tandis que sa chambre de verrouillage de charge réduit le risque de contamination, ce qui permet à plusieurs programmes de plaquettes de fonctionner en un seul cycle, et réduit la variabilité de plaquettes à plaquettes. Enfin, ses systèmes d'adaptation RF de haute précision et de rampe d'alimentation garantissent la répétabilité et l'uniformité. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire de LAM RESEARCH 4420i un outil de gravure très polyvalent et fiable. Il est adapté à une variété d'applications de gravure, telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication de photomasques, la production de MEMS et de Bio-MEMS, et d'autres applications spéciales gravées.
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