Occasion LAM RESEARCH 4428B #9302933 à vendre en France

Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
4428B
ID: 9302933
Taille de la plaquette: 8"
Etcher, 8" ENI 650 Generator ENI Generator rack No clamp type.
LAM RESEARCH 4428B est un équipement unique d'IO etcher/asher, combinant des capacités de traitement haute performance et des capacités de gravure avancées. Utilisé à la fois dans les procédés de gravure humide et sèche, 4428B est un outil puissant pour la production et la maintenance de couches de dispositifs semi-conducteurs. LAM RESEARCH 4428B est doté d'une conception unique à double chambre, offrant à la fois des capacités de gravure humide et de nettoyage à sec. Amélioré par le contrôleur PR4000 prouvé, il offre l'exactitude d'enregistrement et d'alignement complète. Un système de refroidissement en option est disponible pour les opérations par lots et manuelles, et une ligne d'azote est incluse pour les processus de gravure en atmosphère inerte. L'unité peut être exploitée en mode d'exécution manuelle ou automatisée, et une interface graphique conviviale rend le fonctionnement convivial. La machine est conçue pour une efficacité optimale, avec un lavage IVC précis (In-Valve Control) et une surveillance de gravure en temps réel pour un excellent contrôle des processus. Les chambres sont construites en acier inoxydable de haute qualité et résistant à la corrosion, facile à nettoyer et à entretenir. Il est également équipé d'un outil de transport de grande capacité, fournissant jusqu'à 5 positionneurs de plateaux avec une capacité de chargement automatique. 4428B comprend une gamme de dispositifs de sécurité standard pour assurer la sécurité du personnel, y compris un circuit de mise à la terre complet, des capacités de purge automatique des chambres, et un actif de surveillance de la pression. Un programme de gestion des données est intégré, fournissant des dossiers de processus et stockant jusqu'à 500 recettes de plaquettes. LAM RESEARCH 4428B est la solution idéale pour la gravure de haute précision. Il offre des performances fiables, des caractéristiques de sécurité fiables et des capacités de contrôle de processus avancées intégrées dans une conception compacte. C'est l'outil idéal pour l'industrie des semi-conducteurs en évolution rapide.
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