Occasion LAM RESEARCH 4500 #9137678 à vendre en France

LAM RESEARCH 4500 est un graveur/asher haute performance conçu pour les processus de gravure thermique et non thermique. Il est doté d'une technologie brevetée Dual Mono Pump (DMP) qui permet la gravure sèche à basse pression de matériaux exigeants tels que l'arséniure de gallium (GaAs). 4500 a une dimension de chambre de 600mm X 450mm X 400mm et est équipé d'un système de positionnement linéaire pneumatique, qui positionne robustement l'obturateur pour une gravure locale précise. Le système dispose également d'un bras robot auto-aligneur avec deux points de fixation manuelle pouvant accueillir jusqu'à une taille de tranche de 150 mm, permettant une gravure précise et répétable. LAM RESEARCH 4500 est conçu pour fournir une gravure hautement fiable et répétable. Il dispose d'une technologie DMP (Dual Mono Pump) unique qui permet une gravure simultanée en Monova (EiM) et une gravure ionique réactive (RIE) de profils de gravure complexes en une seule étape de processus. Cela permet à l'utilisateur d'obtenir des taux de gravure plus élevés à des pressions plus faibles, ce qui entraîne une consommation de matériaux plus faible et des temps de traitement améliorés. 4500 est également équipé d'un contrôleur de chauffage à source intégré qui permet un contrôle précis de la température de la source afin de minimiser la consommation de matière et la perte de répétabilité du processus. En plus du DMP, LAM RESEARCH 4500 dispose de technologies supplémentaires telles que le plasma haute densité (HDP) et le vide point final (EPV) pour améliorer les résultats de gravure. Le HDP génère un plasma ionisé de très petite taille pour extraire plus d'ions de la chambre, ce qui augmente les taux de gravure et améliore l'uniformité. Dans le même temps, EPV assure un pompage rapide de la chambre de gravure jusqu'à la pression de vide désirée, ce qui réduit la gravure inégale des surfaces du substrat. 4500 est conçu pour un fonctionnement sûr et efficace avec interface utilisateur point-and-click intuitive. Le système est principalement utilisé pour la fabrication de dispositifs microélectroniques complexes tels que des composants logiques, mémoire et RF (radiofréquence). Il offre un procédé de gravure fiable et haute répétable pour différents types de matériaux dont l'arséniure de gallium (GaAs), le silicium (Si), le silicium germanium (SiGe) et le silicium sur isolant (SOI).