Occasion LAM RESEARCH 4520 XLE #9173004 à vendre en France

LAM RESEARCH 4520 XLE est un graveur/asher double magnétron à gravure premium spécialement conçu pour le traitement de dispositifs logiques avancés. Le système offre deux options de configuration de traitement : processus par lots ou processus semi-continu. La machine est conçue pour le traitement de couches entièrement gravées et partiellement gravées dans des dispositifs avancés. Le processus par lots de l'graveur le rend hautement adapté au traitement avancé des appareils et offre une uniformité supérieure, la mobilité des atomes et le contrôle complet du processus sur les résultats souhaités. Le système est configuré avec un graveur double magnétron automatique, impulsionnel et asher qui fournit des caractéristiques d'impulsions supérieures et une uniformité supérieure, y compris une configuration de base de temps réglable pour assurer le résultat souhaité. 4520 XLE comprend également une cassette de plaquette avancée, qui offre un niveau d'accès pratique aux plaquettes pendant le traitement, le rendant plus efficace et plus facile à entretenir. La machine a été conçue pour être extrêmement fiable, offrant une répétabilité et une uniformité de processus supérieures, ainsi qu'un rendement de processus amélioré, par rapport à d'autres systèmes de gravure industriels. LAM RESEARCH 4520 XLE est également très configurable. Il est chargé de fonctionnalités de pointe et offre une grande variété de paramètres de processus sélectionnables par l'utilisateur, y compris la vitesse de gravure, la pression et la polarité, la sélectivité et le débit. La machine est conçue pour un entretien rapide et facile et peut accueillir une panoplie d'outils de maintenance et de pièces de rechange. En outre, 4520 XLE est équipé de fonctionnalités de sécurité avancées, ce qui contribue à garantir que les données des utilisateurs sont maintenues et sécurisées. LAM RESEARCH 4520 XLE est le choix idéal pour tout projet de traitement d'appareil avancé. Ses performances fiables, son homogénéité supérieure et ses options de contrôle des processus, ainsi que sa capacité à traiter les couches entièrement gravées et partiellement gravées, en font la solution idéale.