Occasion LAM RESEARCH 4520 #9167744 à vendre en France

LAM RESEARCH 4520 est un graveur/asher robuste et fiable pour les procédés techniques. Avec son design innovant qui offre une gravure haute performance et une gravure ionique réactive profonde (RIE), il est idéal pour une variété de processus de gravure tels que la gravure de tranchées profondes, la gravure double damascène et la gravure de trous de contact. Les caractéristiques etcher/asher conception modulaire, plusieurs chambres de processus et une grande flexibilité, permettant aux utilisateurs d'étendre leurs wafering processus intégrés sans nouvelle refonte du système. Il a une empreinte compacte le rendant facile à installer et s'adapte à la plupart des configurations de salle blanche. L'etcher/asher est équipé de capacités de contrôle de processus de précision et de capacités matérielles intelligentes, automatisant efficacement des processus rigoureux. Il supporte la capacité de double exécution et permet le clonage à verrouillage de charge pour minimiser le budget thermique et permettre des temps de longue durée. L'unité de contrôle de gaz de 4520 est intégrée à toute la gamme de logiciels de diagnostic et d'analyse, fournissant une régulation précise de la température et de la pression. Il est équipé d'un système de commande avancé et puissant conçu avec des lignes chauffées et des électrodes et un système d'erreur auto-diagnostique, assurant une grande fiabilité de l'équipement. La source de plasma de la LAM LAM RESEARCH 4520 est alimentée par une alimentation de pointe avec un rendement de fonctionnement élevé et une densité de plasma élevée. Il peut atteindre une haute sélectivité dans le processus de gravure et préserve le profil des masques à motifs. Le réacteur offre une bonne uniformité de gravure et une excellente couverture d'étape, avec un surgravure et un rebord de procédé peu coûteux. Le LAM 4520 est un graveur/asher très avancé qui perfectionne tout processus de gravure ou d'ashing. Il offre aux utilisateurs un contrôle et une automatisation de précision complets, un processus intégré flexible et une grande fiabilité, ce qui se traduit par une performance optimale de traitement des plaquettes.