Occasion LAM RESEARCH 4520 #9386644 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
4520
ID: 9386644
Taille de la plaquette: 8"
Oxide etcher, 8" Bottom clamp type.
LAM RESEARCH 4520 est un équipement avancé de gravure et d'asher conçu pour fournir des résultats précis et à haut volume de la manière la plus efficace. Le système est équipé d'une puissante source de plasma qui aide à traiter les matériaux rapidement sans aucun compromis dans la précision. L'unité est conçue pour manipuler une variété de matériaux, y compris le métal dur et non métallique, offrant la polyvalence attendue d'une machine de gravure et de cendrage moderne. La conception et l'outillage de l'outil sont capables de produire des résultats précis quel que soit le matériau et l'utilisation de techniques d'imagerie avancées, y compris la courte longueur d'onde et la photolithographie aux ultraviolets profonds, permet un tissage précis. Le LAM 4520 comprend un outil de contrôle automatique des processus et un logiciel avancé de reconnaissance des motifs qui permet de traiter facilement les conceptions les plus complexes. En outre, il est équipé d'un contrôleur de processus à distance qui permet de régler le processus en temps réel sans interrompre le fonctionnement global. Cela rend le modèle très efficace et efficace et garantit que même les conceptions les plus complexes peuvent être traitées avec précision. L'équipement est conçu pour offrir des rendements et une qualité exceptionnels. Son système de vide de meilleure qualité et une source de pulvérisation ionique très efficace - capable de traiter des substrats à des vitesses considérablement plus élevées - offrent des temps de traitement rapides et des performances supérieures. En outre, son outil avancé de valorisation de la lithographie permet une meilleure précision et donne d'excellents résultats. LAM RESEARCH 4520 est une unité de gravure et de cendrage efficace, puissante et très fiable, capable d'offrir des performances supérieures dans des applications à haut volume. Sa large gamme d'options de personnalisation, son jeu de fonctionnalités avancé et son contrôle amélioré des processus en font un choix idéal pour les laboratoires de recherche industriels et universitaires.
Il n'y a pas encore de critiques