Occasion LAM RESEARCH 4520 #9389918 à vendre en France

LAM RESEARCH 4520
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
4520
ID: 9389918
Oxide etcher, 8" Clamp envision.
LAM RESEARCH 4520 est un graveur/asher de plate-forme de grappe conçu pour fournir le contrôle de précision, de vitesse et de qualité nécessaire à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet équipement se compose de plusieurs chambres de gravure et de cendrage de haute précision avec un système de contrôle de chambre avancé et un régulateur de débit massique intégré. 4520 est conçu pour fournir un débit et une fiabilité extrêmement rapides, avec des capacités de traitement parallèles et un traitement à haute température. LAM RESEARCH 4520 etcher/asher dispose de trois chambres de gravure et de cendrage avancées, chacune étant optimisée pour différents types de traitement. La chambre de gravure du plasma est conçue pour le nettoyage du plasma, le prétraitement des échantillons, la gravure et la cueillette des plaquettes. Il est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 5 pouces de diamètre, et est équipé d'un lecteur de fréquence variable pour un contrôle précis des paramètres du processus. La chambre ultra haute densité est idéale pour la gravure ultra haute densité et la cueillette de plaquettes, et est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 8 pouces de diamètre. Il est également équipé d'une gamme de composants intégrés avancés pour un contrôle précis des processus. Enfin, la chambre de gravure humide offre une haute précision de gravure humide et de cendrage, et est équipée d'un régulateur de débit laminaire intégré, de régulateur de température et de capteur de pression. Le processus de gravure et d'ashing sur 4520 est contrôlé par une série de composants avancés, y compris un PLC basé sur Siemens Simatic S7, qui fournit un contrôle précis et précis des paramètres du processus. Un contrôleur de processus avancé est également intégré qui surveille la température, le temps, la pression et les conditions de réaction en temps réel, et fournit une optimisation automatique du processus pour un maximum de précision, précision et rendement. L'unité dispose également d'un régulateur de débit massique avancé qui assure un contrôle précis des gaz et actifs d'alimentation, pour fournir des paramètres de processus stables à chaque cycle gravure/cendres. La machine dispose également d'un large éventail d'outils de diagnostic, tels que le microscope électronique à balayage cryogénique, la spectroscopie photoélectronique à rayons X, l'analyseur de gaz résiduel et le profileur de surface. Ces outils fournissent un contrôle précis du processus de gravure/cendres, permettant un contrôle précis des paramètres du processus et la capacité de surveiller et de dépanner tout problème de processus. LAM RESEARCH 4520 est conçu pour une fiabilité extrême et un traitement à haute température et offre des capacités avancées, y compris le traitement parallèle de plusieurs plaquettes et le stockage de recettes pour un rappel facile des étapes de processus. L'outil est également équipé d'un logiciel avancé de contrôle des processus qui fournit un contrôle automatique des processus basé sur la recette, ainsi qu'une interface conviviale pour optimiser l'actif. En outre, 4520 comprend une gamme de fonctionnalités de sécurité avancées, y compris un mode de maintenance qui permet un fonctionnement sûr du modèle même en cas d'échec d'une étape de processus. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH 4520 est un équipement de gravure et de cueillette avancé et fiable qui est idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il offre un débit et une fiabilité extrêmement rapides, avec un contrôle précis des paramètres du processus et des diagnostics avancés, ce qui en fait un outil précieux pour obtenir un maximum de précision et de rendement.
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