Occasion LAM RESEARCH 4520ENV #293757898 à vendre en France
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LAM RESEARCH 4520ENV est un équipement de graveur et asher très avancé conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet outil innovant allie technologie de pointe et performance de précision pour répondre aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs. LAM RESEARCH 4520 ENV offre une large gamme de capacités pour la gravure, l'ashing et d'autres processus plasmatiques, ce qui en fait une solution polyvalente pour une variété d'applications. Au cœur de 4520ENV est la technologie avancée de traitement du plasma qui permet l'enlèvement précis et uniforme des matériaux et le traitement de surface. Le système dispose d'une source de plasma haute densité qui génère un plasma de gaz très réactif, ce qui est essentiel pour les processus de gravure et de cueillette. La source de plasma est alimentée par une puissance RF haute fréquence, qui peut être contrôlée avec précision pour atteindre les vitesses de gravure et la sélectivité souhaitées. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure, assurant un transfert précis du motif sur le substrat semi-conducteur. 4520 ENV est équipé d'une gamme de chambres de procédés, chacune optimisée pour des types spécifiques de procédés plasmatiques. Ces chambres sont conçues pour offrir des conditions de processus uniformes sur toute la surface de la plaquette, assurant des taux de gravure et une sélectivité constants. L'unité dispose également de systèmes de distribution de gaz sophistiqués qui permettent un contrôle précis des gaz de procédé, des débits et des niveaux de pression. Cela garantit des conditions de processus optimales et l'uniformité, conduisant à des résultats de gravure de haute qualité. L'une des caractéristiques clés de LAM RESEARCH 4520ENV est sa machine de détection d'endpoint avancée, qui permet une surveillance en temps réel du processus de gravure. L'outil utilise la spectroscopie optique d'émission (OES) pour détecter la présence de sous-produits de gravure spécifiques dans le plasma, signalant la fin du processus de gravure. Cette boucle de rétroaction en temps réel permet un contrôle précis du point final du processus de gravure, garantissant des résultats précis et reproductibles. En plus de la gravure, LAM RESEARCH 4520 ENV peut également être utilisé pour des procédés de cendrage, qui impliquent l'élimination des résidus organiques du substrat semi-conducteur. L'actif comprend des recettes de processus spécialisées et des paramètres pour les applications ashing, assurant l'élimination efficace et complète des contaminants organiques. Cette capacité est essentielle pour assurer la propreté et la fiabilité des dispositifs semi-conducteurs. 4520ENV est également équipé de fonctionnalités d'automatisation avancées, y compris la gestion des recettes, l'enregistrement des données et les capacités de surveillance à distance. Ces caractéristiques permettent une intégration transparente du modèle dans les lignes de fabrication des semi-conducteurs, améliorant le contrôle des processus et la productivité. L'équipement offre également une interface conviviale pour faciliter le fonctionnement et la surveillance des processus de gravure. Globalement, 4520 ENV est un système de graveur et d'asher de pointe qui offre des performances, une précision et une polyvalence inégalées pour la fabrication de semi-conducteurs. Avec sa technologie avancée de traitement du plasma, son unité de détection d'endpoint et ses fonctions d'automatisation, LAM RESEARCH 4520ENV est un outil précieux pour obtenir des résultats de gravure de haute qualité dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs.
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