Occasion LAM RESEARCH 4520i #9196534 à vendre en France
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ID: 9196534
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2004
Etcher, 6"
Verity enhanced endpoint detection
LAM RF Generator rack:
ISO AE RFG 1250 RF generator
Chamber process kit parts:
Attachment ring
Upper and lower baffles
Electrode clamp ring
Filler ring lower clamp
Focus ring edge lower
Bottom wafer clamp
Single wafer
Flat notch orientation
Integrated isotropic-anisotropic etching
Wafer temperature control:
Reduced loading effects
Variable gap spacing: Wide process flexibility
Parallel plate reactor: Proven etch technology
Inductive RF auto tuning: Fast accurate RF tuning for precise control
Thermal oxide etch rate: ≥ 4500 A/min
BPSG Etch rate: >7500 A/min
TEOS Etch rate: >5000 A/min
Uniformity: +/- 10% 3
Selectivity BPSG/TEOS to poly: >15:1
Particles: 0.3μm size
Does not include dry pumps or chiller
2004 vintage.
LAM RESEARCH 4520i est un graveur/asher de gaz à affinité plasma entièrement automatisé et à chambre unique conçu pour fournir les processus de gravure et d'ashing les plus précis disponibles. L'équipement est capable de supporter de multiples technologies, telles que la gravure ionique réactive (RIE), le plasma inductif couplé (ICP), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et la pulvérisation magnétron. Ce type de procédé de gravure et de cendrage convient à une grande variété d'applications, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, de disques durs, d'écrans plats et d'autres substrats avancés. 4520i est équipé d'une gamme flexible de capacités de source pour toute combinaison de gravure ou de cendre. Il comprend une source unique à couplage capacitif cryogénique ainsi que sa source ICP traditionnelle pour les applications personnalisées. La capacité de LAM RESEARCH 4520i à produire des résultats extrêmement précis le rend adapté aux besoins de haute densité, de gravure en ligne ultra fine et de cendrage. En outre, la fenêtre de traitement est suffisamment grande pour accueillir une grande variété de gaz et d'applications. De plus, 4520i dispose d'un nettoyant à gaz in situ pour réduire la contamination des procédés et améliorer la productivité. Il utilise également des capteurs embarqués pour assurer la cohérence des processus et un système de charge automatique très efficace pour réduire le temps de traitement. Le contrôleur de l'unité est conçu pour fonctionner rapidement et avec précision dans une variété d'environnements. LAM RESEARCH 4520i est très adaptable, offrant une large gamme de paramètres à modifier pour répondre aux exigences d'une application donnée. Il utilise une grande variété de matériaux, et est capable de gravure à basse et haute pression, avec une gamme de différents niveaux de température et de puissance. La répartition uniforme de la température de la machine dans la chambre de traitement donne des résultats uniformes et cohérents. 4520i est très efficace et rentable et est idéal pour la plupart des applications de gravure et d'ashing.
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