Occasion LAM RESEARCH 4526 #9249911 à vendre en France

LAM RESEARCH 4526
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
4526
ID: 9249911
Taille de la plaquette: 6"
Oxide etcher, 6" Includes: EDWARDS QDP80 / QMB500 Dry pumps Chiller.
LAM RESEARCH 4526 Asher/Etch Equipment est un système asher/etch fiable et efficace conçu pour assurer une couverture de traitement uniforme sur un large éventail de substrats. Cette unité est un excellent choix pour des séries de production de volume moyen à élevé, permettant la manipulation d'une grande variété de substrats, et permettant une large gamme de procédés chimiques. La machine dispose d'une chambre de gravure RAIE (télécommande atmosphérique) montée par robot ainsi que d'une chambre de métallisation IC pour le dépôt de métaux et de diélectriques. Le robot articule quatre bras robotisés indépendants, composés de bras supérieurs et inférieurs, permettant à l'outil de manipuler à la fois des surfaces complexes et des surfaces lisses. 4526 est équipé de l'une des technologies de contrôleur de processus de niveau IV les plus avancées disponibles, fournissant des vitesses de traitement rapides et éliminant le besoin d'ajustements manuels. Son interface tactile conviviale permet aux utilisateurs de voir tous les processus en temps réel, tandis qu'une bibliothèque de recettes et de modèles de processus permet un haut niveau de répétabilité et de contrôle des processus. LAM RESEARCH 4526 dispose également de fonctions de sécurité avancées, telles qu'une clé de sécurité physique, une grille laser de sécurité embarquée et une fonction de protection anti-désalignement et anti-enfouissement. De plus, l'actif comprend des capacités d'inspection en ligne et de surveillance détaillée des processus, ce qui permet de réaliser des opérations de production qui répondent aux exigences les plus élevées. Le modèle 4526 offre un large éventail de possibilités de processus, y compris la gravure réactive, le polissage, le dépassage, le recuit et le nettoyage par spin-on/isolation. Il a une capacité de haute précision de +/-1 micron précision, permettant un parage précis et la formation de petits composants semi-conducteurs. En outre, l'environnement de gravure étanche sous vide de l'équipement assure des profils uniformes et des rendements de processus les plus élevés. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH 4526 Asher/Etch System est une solution efficace et fiable pour la production de volumes moyens à élevés. Ses fonctionnalités avancées et son interface utilisateur permettent un haut niveau de contrôle des processus, assurant une couverture de traitement uniforme sur une large gamme de substrats et d'excellents rendements de processus.
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