Occasion LAM RESEARCH 4528 #9136807 à vendre en France

LAM RESEARCH 4528 Asher/Etcher est un dispositif automatisé de station de gravure plasma destiné à la fabrication de semi-conducteurs. La machine est conçue pour la gravure plasma de précision et le retrait du directeur avec des résultats reproductibles. Il dispose d'un équipement multi-zones, haute résolution, auto-compensation endpoint de détection. Cette unité est capable de fonctionner soit en basse fréquence, soit en haute fréquence. Le dispositif est construit avec un bras oscillant et un système de vide à deux étages qui comprend une haute température, chambre autonome. L'unité de vide fournit des opérations de vide étanche et purgeable pour fournir un environnement sûr pour les opérations, permettant des opérations et des procédés sans contamination. Il dispose également d'un mandrin cible circulaire actif avec étrier RF. 4528 supporte un large éventail de capacités de processus. Il est capable de graver jusqu'à 350 mm de plaquettes. Il dispose d'une machine de première étape avancée et est configuré avec plusieurs ensembles d'injecteurs de gaz indépendants. La gravure avancée de première étape aide à améliorer la répétabilité et la cohérence de la gravure. Il dispose également d'un outil de stabilité à long terme pour la gravure fiable et la récupération in situ des ressources pour le recyclage de l'eau et des produits chimiques. De plus, le dispositif est capable d'un débit de gaz inerte plasma élevé pour un contrôle de vitesse de gravure cohérent. L'appareil est équipé d'un outil d'automatisation complet pour la procession et la manipulation des plaquettes. Il dispose d'un modèle IQ/OQ/PQ pour les opérations courantes et l'autoverification. Les fonctions d'automatisation comprennent Wafer Mapping, le transfert de plateau de cassette à cassette, le mode mini-environnement et la surveillance rapide des processus. Le dispositif intègre également un équipement d'amorçage automatisé pour la maintenance et la réduction du temps de démarrage du processus. LAM RESEARCH 4528 est conçu pour soutenir un large éventail de recettes et de procédés, y compris la gravure standard, la gravure d'espèces mixtes, la gravure anisotrope/isotrope, la gravure profonde, la bande de résistance et le nettoyage profond. Il supporte divers gaz de gravure tels que l'oxygène, le fluorocarbone, l'inerte et le chlore. Il a également un faible coût total du système de propriété et faible complexité des processus. Il est fabriqué selon les normes de la salle blanche semi-conductrice et est le poste de travail le plus recherché pour le travail de gravure.