Occasion LAM RESEARCH 490 / 590 #9077769 à vendre en France
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ID: 9077769
Etcher
Main Chamber:
Chamber
Bottom chamber and exhaust ring
Lower electrode assembly with focus ring style electrode (Boxed separately)
Vacuums
Rotary O-rings
Seals
Pneumatic tubing and fittings
Pneumatic cylinders
Upper electrode is process dependent and not supplied
Load Locks:
Vacuums
Rotary O-rings
Seals
Pneumatic tubing and fittings
Pneumatic cylinders
Wafer arms and wafer guides are size dependent and not supplied
Machine Mainframe:
Pneumatic tubing
Connectors and fittings
Cables re-bundled and ty-wrapped
Frame
Top panels
Front and side panels
Elevators: (Packed separately)
Top plastic dust covers not supplied
Baratron head not supplied
Gap Drive head and Automatch: (Packed separately)
Front display panel and operator interface
Electronics drawer (Packed separately)
Factory manuals are included
Complete frame
RF Power supply is not supplied nor are any external cables, gas lines, throttle valve, or vacuum fittings.
LAM RESEARCH 490/590 est un équipement de graveur/asher idéal pour une variété de matériaux de substrat. Conçu pour être polyvalent, il supporte l'utilisation de la gravure ionique réactive et résiste aux techniques de cendrage. Ce système comprend une chambre de gravure entièrement pilotée par ordinateur, permettant un contrôle précis et une répétabilité du processus de gravure. La chambre de gravure a un volume de chambre de 40 litres et est capable d'atteindre des niveaux de vide jusqu'à 1x10-5 torr. Il abrite une source d'alimentation à double fréquence RF et une pompe turbo-moléculaire en céramique. La chambre dispose d'un support de substrat standard de 12 "x12" qui peut être configuré pour permettre des plaquettes jusqu'à 8 ". Il dispose également d'une fenêtre de suivi de processus permettant la surveillance du processus de gravure en temps réel. La gravure ionique réactive (RIE) est une capacité clé de cette unité, permettant la gravure de substrats en matériaux incluant le silicium, les polyimides, les polycarbosilanes et même les alliages métalliques. Il permet la formation de motifs complexes avec des arêtes vives. Il est également capable de réaliser des résistances à la fois positives et négatives. La machine dispose également d'une sélection de capacités de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Cela inclut le mode de pulsation CVD, CVD double fréquence, et CVD double puissance, qui peut être utilisé pour déposer des matériaux tels que SiO2, SiN, et Al2O3 sur la plaquette. L'outil 490/590 etcher/asher est un outil de gravure puissant qui fournit une variété de fonctions et de capacités pour traiter divers substrats. Il dispose d'interfaces conviviales, de configurations flexibles et d'une source RF intégrée pour permettre un contrôle précis du processus de gravure. Il est capable de produire de façon sûre et fiable des résultats de gravure de haute qualité tout en réduisant les temps et les coûts de production.
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