Occasion LAM RESEARCH 490 #9196387 à vendre en France

LAM RESEARCH 490 est un graveur/asher ultramoderne doté de technologies de résistance au plasma et à la photo. Il est conçu pour graver des matériaux tels que les métaux, les plastiques, les céramiques et les films minces, avec un contrôle de tolérance très précis. Cela le rend idéal pour créer des motifs complexes et des fonctionnalités pour des composants électroniques et optoélectroniques de haute fiabilité. La 490 est équipée d'un mécanisme automatisé de manutention des plaquettes qui facilite le chargement et le déchargement lors de la gravure. Ce mécanisme assure l'uniformité des processus de gravure permettant des résultats reproductibles. Il a également un processus d'alignement des plaquettes pour minimiser les erreurs lors de la gravure et minimiser les dommages suburface. LAM RESEARCH 490 offre la gravure RF et DC. La gravure RF permet de graver sans générer d'ions excédentaires typiquement générés par des processus tempérés plus élevés, évitant ainsi la contamination des matériaux et améliorant la qualité des résultats gravés. La gravure continue, par contre, utilise une procédure de gravure à faible courant qui augmente la vitesse de gravure et réduit les temps de gravure. La portion asher de 490 peut accueillir à la fois de courtes et longues gravures typiques. Il peut également être utilisé pour appliquer des résistances photo sur des plaquettes avant la gravure. LAM RESEARCH 490 est unique dans sa capacité à graver et à asher avec une très grande répétabilité et uniformité sur une large gamme de diamètres de plaquettes. Le système de contrôle 490 est un système en boucle fermée incorporant des capteurs internes qui permettent d'optimiser les paramètres de gravure pour différents matériaux et types de processus. Ces capacités de détection surveillent également tout changement soudain qui pourrait causer l'instabilité du processus. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH 490 est un graveur/asher fiable et très précis qui peut être utilisé pour une variété de procédés de photorésistance et de gravure. Ses caractéristiques et capacités l'aident à obtenir des performances et une qualité de gravure optimales en temps de tournage rapide.