Occasion LAM RESEARCH 590 #9027423 à vendre en France

Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
590
ID: 9027423
Taille de la plaquette: 6"
Oxide etcher, 6" Fully automated microprocessor control High-throughput vacuum loadlocked Programmable, variable electrode spacing End point detection Cassette to cassete Can accommodate 3" to 6" wafers (5) Gas channels max RF power: 1,250 W @ 13.56 MHz 208 VAC, 3 phase, 60 Hz.
LAM RESEARCH 590 est un équipement de graveur-asher utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 300 mm de diamètre. 590 dispose d'une double cavité « UniClave » conception qui aide à améliorer la productivité en permettant le double du nombre de plaquettes à traiter à la fois. Le système offre également des performances thermiques supérieures et des taux de dépôt faibles grâce à son unité de chauffage répartie, une géométrie de chambre avancée et une conception de pompage à haut rendement. De plus, LAM RESEARCH 590 utilise la technologie des dépôts électrophérétiques (epd), qui permet un contrôle précis des motifs de gravure et de l'épaisseur pendant les cycles de processus. Avec ses fonctionnalités avancées, c'est une machine idéale pour gérer des nœuds et des applications technologiques de pointe. L'outil dispose de chargement et de déchargement automatisés et est capable d'être chargé dans les configurations simple et multi-wafer. 590 intègre également un actif avancé de cartographie des plaquettes qui permet un contrôle précis des processus. Un moniteur de niveau de vide est configuré pour alerter l'opérateur de dommages potentiels à la surface du substrat. De plus, LAM RESEARCH 590 inclut la programmation et le diagnostic en ligne, permettant une configuration et des ajustements rapides et précis du cycle de processus. 590 graveur est également équipé d'un graveur GaAs haute performance intégré pour les processus de couverture et de fin de ligne, avec un minimum de dommages à la surface de l'appareil. Enfin, le modèle LAM RESEARCH 590 Etcher/Asher utilise un cycle de processus humide/sec qui permet de réduire les contraintes thermiques et d'obtenir un rendement global plus élevé. Cela en fait un candidat idéal pour les nœuds de technologie de pointe et les applications. Il offre également une solution robuste pour fournir des gravures précises et de haute qualité à un débit élevé, offrant aux utilisateurs la précision et la productivité dont ils ont besoin pour rester compétitifs dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs.
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