Occasion LAM RESEARCH 590 #9100791 à vendre en France
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ID: 9100791
Taille de la plaquette: 4"
Oxide etcher, 4"
High throughput
Vacuum loaded-locked
Automated microprocessor control
ENI OEM-6 Generator: 13.56 MHz, 650 Watts
Printer
Pneumatic loader mechanism
Pumps
Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase.
LAM RESEARCH 590 est un graveur/asher de précision haute performance conçu pour traiter des structures microélectroniques 3D et un rapport d'aspect élevé. Il utilise des logiciels de pointe pour fournir une capacité complète pour les applications de gravure et de cendrage dans divers matériaux et processus. 590 convient à la production industrielle en raison de ses configurations à haut débit et des modules de processus flexibles. La chambre de LAM RESEARCH 590 est en céramique et en titane, offrant une résistance chimique et une tolérance à haute température. Il est équipé de cinq bobines électromagnétiques pour fournir un champ électromagnétique continu uniforme à travers la zone de gravure, assurant une gravure uniforme et une haute sélectivité. Les électrodes assurent un réglage stable et répétable de la polarisation continue, offrant une large gamme de profondeurs de gravure. Une source de résonance électro-cyclotron (ECR) brevetée LAM déclenche le processus avec un plasma haute fréquence, ce qui se traduit par une gravure efficace avec une grande sélectivité et peu de sous-produits. Son équipement propriétaire de compresseur dynamique à gaz fournit une gravure basse pression avec un débit de gaz uniforme et une sortie plasma radiale, ce qui donne une gravure haute résolution. Le 590 intègre le système informatisé breveté d'échantillonnage et de manipulation (CASH) de LAM pour le chargement efficace des échantillons et la discrimination par plasma. La technologie de reconnaissance de la lunette (BRT) pour la manipulation et l'alignement automatisés des plaquettes garantit une précision optimale au niveau de la matrice. La machine est capable de recevoir une large gamme de tailles de plaquettes, de 5mm à 7,5 ". L'unité de commande de mouvement (LMS) de LAM fournit une technologie avancée de commande de mouvement pour LAM RESEARCH 590, permettant un positionnement rapide et précis des échantillons au débit. Les recettes de processus automatisées intégrées fournissent une gravure efficace et fiable avec des paramètres optimaux. La machine à vide de pointe intègre plusieurs caractéristiques qui assurent une gravure uniforme et une contamination réduite des particules. Par exemple, l'outil de pompage à vide à froid à chaud est spécifiquement conçu pour prévenir la contamination par les macro-particules, tandis qu'un moniteur de pression arrière actif empêche toute macro-contamination à l'arrière de la plaquette. 590 est un actif à haut débit qui est fiable et convivial. Son automatisation avancée et ses contrôles garantissent une répétabilité et un rendement élevé. Avec ses différentes caractéristiques, LAM RESEARCH 590 est très efficace pour effectuer la gravure de précision et l'ashing pour les structures microélectroniques industrielles, MEMS et 3D.
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