Occasion LAM RESEARCH 590 #9226108 à vendre en France

LAM RESEARCH 590 Etcher/Asher est un outil de dépôt polyvalent pour la gravure et le dépôt de matériaux pour le revêtement de surface et la modification. Il utilise une technologie brevetée de « fenêtre en diamant » génératrice de plasma pour créer des gravures précises, permettant aux utilisateurs de concevoir et de façonner des surfaces métalliques selon des spécifications précises. Il est conçu pour fournir une solution économique pour gérer des tâches complexes de modification de surface tout en maintenant un débit élevé et une précision précise. 590 dispose d'une taille compacte qui lui permet de s'adapter aux environnements de laboratoire et de fabrication. Il offre des procédés de dépôt précis et reproductibles, facilitant à la fois la modification de surface de haute précision et l'accord topographique. Ses principales caractéristiques comprennent le contrôle de la pression et de la température, un réglage facile de la vitesse de gravure et de l'épaisseur de la couche, des tailles de buse rapidement changeables et une variété de gaz de procédé compatibles. LAM RESEARCH 590 est équipé d'un système de gaz haute performance, optimisé exclusivement pour le traitement haute performance, capable de supporter plusieurs sources de gaz et systèmes de distribution. L'graveur est capable de graver des matériaux de haute pureté, ainsi que des métaux avec différents profils de mélange, tels que l'acier inoxydable et l'aluminium. La 590 dispose également d'un système optique multi-vues à haute résolution qui permet une détection rapide et précise des progrès des dépôts, éliminant la nécessité d'une évaluation des échantillons. LAM RESEARCH 590 est conçu pour fournir un entretien facile et la flexibilité grâce à l'utilisation de systèmes de diagnostic et de contrôle intégrés. Le système est équipé d'un mandrin multi-zones avec des chauffages numériques, un four à haute vitesse et une logique numérique programmable pour le contrôle des processus et des composants. En outre, son architecture logicielle avancée permet le contrôle et l'optimisation des processus pour assurer des performances répétables et fiables. Une caractéristique unique de 590 est sa capacité à déplacer la table de substrat pendant les processus de gravure et de dépôt. Cela permet aux utilisateurs d'évaluer avec précision les résultats d'un processus et d'ajuster les paramètres au besoin en temps réel. De plus, il est conçu pour offrir un faible coût de propriété, permettant aux utilisateurs de réaliser des économies grâce à la réduction des investissements en immobilisations, des coûts d'exploitation et de l'entretien.