Occasion LAM RESEARCH 590 #9226290 à vendre en France

LAM RESEARCH 590
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
590
ID: 9226290
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1999
Etcher, 6" 1999 vintage.
LAM RESEARCH 590 est un graveur/asher de pointe pour des applications dans le traitement des semi-conducteurs. C'est un équipement entièrement automatisé offrant un haut degré de dynamique de contrôle des processus, un débit élevé et une répétabilité exceptionnelle des résultats. Le système est conçu autour d'une plate-forme modulaire, offrant des possibilités de configuration flexibles. Cette plate-forme intégrée offre une évolutivité standard de l'industrie des capacités de traitement au niveau suivant. 590 dispose d'un module source de plasma haute vitesse et haute densité (PSM) qui permet un contrôle précis de la vitesse de gravure du plasma et du taux d'utilisation afin d'optimiser le traitement des circuits intégrés (IC) et d'autres dispositifs. Le PSM offre un choix de trois canaux indépendants pour les sources de plasma à couplage inductif et à radiofréquence. Cette unité comprend également un support de substrat isolé thermiquement, un échangeur de chaleur de substrat haute densité, une source de tension multi-têtes, et un logiciel de commande en temps réel avancé de toutes les opérations. LAM RESEARCH 590 dispose également de processeurs informatiques et de logiciels avancés, y compris la surveillance et le contrôle des processus. Cette machine est conçue pour fournir des résultats uniformes et reproductibles et une excellente stabilité à long terme. Pour garantir d'excellents résultats, l'outil dispose de rétroviseurs de focalisation automatique (AFC) et de miroirs de résonance de focalisation automatique (AFM). L'actif AFC contrôle la position du faisceau, tandis que l'AFM ajuste la vitesse de gravure pour assurer une uniformité et une répétabilité optimales. 590 est également équipé d'un modèle avancé de contrôle et de surveillance des substrats de processus (PSCM), qui offre un contrôle intégré en temps réel de tous les paramètres de traitement. Cet équipement permet une gestion, une surveillance et un contrôle exhaustifs des paramètres du processus, y compris la pression, la température, la puissance RF et l'utilisation du gaz. Le système est également entièrement compatible avec les outils de définition, de simulation et d'optimisation des modèles standard de l'industrie. LAM RESEARCH 590 prend également en charge les recettes de processus de haute précision stockées sur le disque dur de l'unité pour une récupération rapide et une configuration facile. La machine est soutenue par LAM RESEARCH support technologique avancé pour la résolution rapide et efficace des problèmes. Ce réseau de support avancé garantit que les clients tirent le meilleur parti de leur graveur/asher et assure une optimisation continue des processus.
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