Occasion LAM RESEARCH 715-440264-003 #293661555 à vendre en France

ID: 293661555
Taille de la plaquette: 8"
Lower chamber assembly, 8".
LAM RESEARCH 715-440264-003 est un graveur/asher, un type de dispositif semi-conducteur utilisé pour la gravure ou la cueillette de diélectriques, de métaux et d'autres matériaux sur un substrat. Il s'agit d'un graveur/asher à tube ouvert conçu pour des procédés chimiques nécessitant un fonctionnement multimode, tels que la gravure sèche, la résistance à la cendre, le strippage humide et la gravure plasma. Cet asher/etcher dispose d'une source de plasma composée d'une source RF exclusive et d'une technologie brevetée LAM de réglage de débit réglable. Cette technologie permet un réglage exact et un contrôle précis du processus de gravure, offrant une large gamme d'options de contrôle de processus. Cette flexibilité est essentielle pour obtenir les résultats de gravure souhaités. L'équipement sous vide de 715-440264-003 est conçu pour fournir un contrôle de vitesse de gravure exceptionnel avec une large gamme de contaminants de gaz de procédé. Le système de vide aide à minimiser les particules et à graver les sous-produits, permettant un contrôle précis et des substrats plus propres. En outre, son modèle de marque propre offre la possibilité d'utiliser des températures de sources de plasma plus élevées afin de produire les meilleurs résultats de gravure. LAM RESEARCH 715-440264-003 propose également une unité thermique avancée pour un contrôle précis de la température. Son four à haute température intégré sur mesure assure une uniformité de température sur l'ensemble du substrat pour un contrôle précis. Son porte-substrat à température variable (VTOSH) unique offre la possibilité de modifier précisément la température de n'importe quelle partie du substrat, offrant une plus grande flexibilité et un contrôle de température plus fin pour les procédés spécialisés. 715-440264-003 dispose de plusieurs options pour les équipements de gaz interchangeables, y compris des injecteurs multipolaires de gaz RF pour l'introduction et la livraison contrôlée de gaz et un capteur de gaz inerte pour la surveillance de l'environnement de la chambre. La machine d'échappement multiport en option permet l'échappement contrôlé des gaz et des sous-produits de procédé, assurant un contrôle optimal de la contamination. Cet asher/etcher peut également être équipé d'un affichage de processus d'instruction pour la configuration automatisée et les corrections, permettant à l'opérateur de surveiller le processus de gravure pour une précision améliorée. Son interface opérateur avancée et sa documentation complète en font un graveur/asher adapté pour les opérateurs de base et avancés. LAM RESEARCH 715-440264-003 est un asher/graveur avancé avec une large gamme de caractéristiques conçues pour fournir des résultats de gravure précis. Son porte-substrat à température variable, son outil d'échappement multiport et son affichage de processus permettent d'améliorer le contrôle et le réglage des processus spécialisés. Son atout thermique avancé et sa source RF permettent un contrôle précis de la température et une augmentation de la température de la source de plasma. Avec ses différents équipements de gaz interchangeables, 715-440264-003 est un asher/etcher adapté pour les utilisateurs de base et avancés.
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