Occasion LAM RESEARCH 832-038915-101 #9363371 à vendre en France

LAM RESEARCH 832-038915-101 est un équipement de graveur/asher de banc humide conçu pour être utilisé dans des procédés de fabrication de plaquettes à grande échelle. Il est capable de graver des plaquettes en matériaux de substrat tels que le silicium, le nitrure de gallium et le molybdène. Le système peut graver/cendres des motifs uniformes sur toute la surface de la plaquette, et obtenir une précision d'angle de 0,6 um ou mieux pour un pas de motif de 25 um et plus. L'unité est composée de plusieurs composants clés, dont un générateur RF, des composants de conditionnement RF, une chambre de pulvérisation RF à grande vitesse, de multiples ports fluidiques et un distributeur de gaz de précision à haute résolution. Le générateur RF est utilisé pour alimenter le processus de pulvérisation et peut fonctionner à des tensions allant jusqu'à 4 kV et des fréquences allant jusqu'à 1 MHz. Les composants de conditionnement RF assurent la stabilité de la puissance fournie à la chambre tout au long du processus de gravure/cueillette. La chambre de pulvérisation RF permet une gravure/cueillette rapide, et est capable de manipuler des plaquettes jusqu'à 12 "de diamètre. A l'intérieur de la chambre, un distributeur de gaz à haute résolution assure un flux uniforme de gaz de gravure/cendres tout au long du processus de gravure/cendrage. En outre, le distributeur de gaz ajoute de la flexibilité à la machine, permettant aux utilisateurs d'ajuster le débit et la composition du gaz de gravure/cendres au besoin. Les ports fluidiques permettent la communication entre l'outil graveur/asher et tout système de gravure liquide ou sèche/cendres contrôlé extérieurement. Les ports permettent également l'introduction de gaz réactifs, tels que O2, NH3 ou Cl2, et permettent la réutilisation de produits chimiques gravés/cendres. Enfin, 832-038915-101 utilise des matériaux spéciaux conçus pour fournir une qualité supérieure de gravure/cendres, et dispose d'une conception de faible entretien avec un minimum de temps d'arrêt. De plus, l'actif supporte la surveillance des processus sur une plate-forme centralisée, ce qui facilite le contrôle des processus et améliore le débit.