Occasion LAM RESEARCH 9400 DFM #9181359 à vendre en France

LAM RESEARCH 9400 DFM est un Etcher/Asher Plasma avancé qui offre des performances inégalées dans un certain nombre d'applications. Il utilise un processus de gravure ionique très précis et contrôlé par l'espace pour obtenir des résultats supérieurs dans un large éventail de tâches de gravure, et est capable de graver des caractéristiques inférieures à 2,5 nanomètres. 9400 DFM peut être utilisé pour la gravure de précision des plaquettes, filtres, films et autres caractéristiques fines avec un degré élevé de précision et de précision. LAM RESEARCH 9400 DFM est équipé de deux chambres Exacting Ion Source (EIS), capables de traiter le vide et l'atmosphère. Il utilise également une technologie CF (fibre de carbone) bi-mode qui permet d'obtenir des performances supérieures en CVD (Chemical Vapor Deposition) et en gravure. Ceci est rendu possible grâce à la combinaison de densités plasmatiques plus élevées et de contributions atomiques uniques de la fibre de carbone. L'équipement est capable de graver une variété de matériaux et peut être utilisé pour un large éventail d'applications. Celles-ci comprennent la gravure diélectrique, la gravure par masque dur, la gravure par contact, la gravure par gravure et la gravure par damascène. Les résultats de gravure sont très reproductibles et offrent une rugosité supérieure de bord et d'oxyde pour la gravure de biseau et de photorésist. Le système dispose également d'un certain nombre de technologies de contrôle avancées pour assurer le plus haut niveau de reproductibilité de chambre. Il utilise une unité de contrôle de polarisation RF avancée, qui donne à la machine un contrôle supérieur de l'énergie ionique et de la pulvérisation. Il comprend également un outil automatisé de pointe appelé « Chamber Management Asset », qui automatise le fonctionnement de 9400 DFM, réduisant l'erreur de l'opérateur et augmentant le temps de disponibilité et la productivité. LAM RESEARCH 9400 DFM est un graveur/asher avancé pour produire des caractéristiques très précises et peut être utilisé dans un large éventail d'applications. Le modèle dispose d'un certain nombre de technologies de contrôle avancées pour assurer des résultats de gravure répétables, et sa technologie CF bi-mode offre des performances de CVD et de gravure supérieures. Il est devenu un chef de file de l'industrie de la gravure et est l'agent de choix pour de nombreuses entreprises de l'industrie des semi-conducteurs.