Occasion LAM RESEARCH 9400 #9152576 à vendre en France
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Vendu
ID: 9152576
Taille de la plaquette: 4"
Etcher, 4"
Turbo pump: STP A2203C2
Gate Valve: VAT65
VAT Controller: PM7
Chamber manometer: 0.1Torr, 629A-13799
Turbo manometer: 10 Torr, 925A117DE
Roughing valve manometer: 10 Torr, 925A117DE
He manometer: 0-100 Torr
He UPC: 50sccm
Gas: He 50sccm FC7700C
Gas: Ar 50sccm FC7700C
Gas: Cl2 50sccm FC7800C
Gas: Bcl3 50sccm FC7800C
Gas: O2 50sccm FC7700C
Gas: CF4 50sccm FC7700C
Gas: N2 2SLM FC7700C
Software: Envision.
LAM RESEARCH 9400 etcher/aser est une solution complète clé en main d'équipement de procédé sec pour gravure, cendrage et nettoyage des substrats de circuit intégré (IC). 9400 utilise un traitement à haute vitesse et à réaction chimique pour améliorer le débit, la précision et la fiabilité. LAM RESEARCH 9400 a une conception de plate-forme modulaire avec des capacités à haute température, fournissant des performances constantes pour une variété d'applications de gravure et de cendrage. 9400 est conçu pour des applications à haut débit et est l'un des graveurs les plus utilisés dans l'industrie. L'architecture modulaire de pointe de LAM RESEARCH 9400 permet une flexibilité maximale des processus et des configurations personnalisées pour des applications spécifiques. La configuration standard comprend une chambre de traitement, un loadlock, une gestion des gaz de traitement, un système de remplissage/vidange et un manipulateur de charge. De plus, 9400 dispose des derniers systèmes d'automatisation, de maintenance et de contrôle des processus pour assurer des opérations précises, fiables et reproductibles. LAM RESEARCH 9400 offre une gravure ultra-rapide et un cendrage des matériaux diélectriques avancés et ultra-minces de membrane et II-VI (MIV), ainsi qu'une gravure précise des couches diélectriques, métalliques et via multicouches. Il a une grande zone de gravure qui offre un haut débit, un virage rapide entre les travaux et des temps de traitement rapides. 9400 offre également de multiples processus de gravure, y compris CF4, CF4/O2, CHF3/CF4, CHF3/O2, N2O, et d'autres, ce qui en fait un excellent choix pour les applications avancées de l'industrie. LAM RESEARCH 9400 est équipé de trois chambres de réaction distinctes de série, d'une chambre de procédé et d'extraction, ainsi que d'une chambre de gravure humide et d'une chambre d'irradiation. De plus, une source d'oxy/acétylène de haute puissance est disponible pour le traitement à haute température. 9400 est conçu pour la gravure et le cendrage de la plus haute précision avec une fiabilité et une répétabilité améliorées. Il offre un haut degré de contrôle du processus, y compris la capacité d'ajuster le temps de gravure par le diamètre de la plaquette et d'ajuster les flux de gaz au niveau du substrat. Il est également capable de réaliser des gravures de photorésist, de métal et de couches diélectriques. LAM RESEARCH 9400 peut traiter des substrats jusqu'à 300mm de taille et est l'un des graveurs les plus avancés disponibles aujourd'hui. Sa grande vitesse, ses performances précises et son architecture modulaire en font un choix idéal pour une variété d'applications de traitement des plaquettes, y compris la production de dispositifs MEMS, LED, LED et semi-conducteurs.
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