Occasion LAM RESEARCH 9600 #9354013 à vendre en France
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ID: 9354013
Etcher
Etch aluminum metal and TiW layers
With vertical sidewalls suitable: 0.35 um line width
Plasma medium-high density transformer coupled plasma
Top electrode power and platen lower electrode power
Water cooled platen
Backside gas: He
C12/BC13 Chemistry used for Al and SF6 for TiW Layers
TiW Etching
Cl-Passivation step
Cl-Chemistry: AI203 Layers and silicon trenches
With minimum undercut
Process gases: CI2, BCI3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, 02, He
Process pressure: 0-100 mTorr
Top electrode power: 0-1250 W
Lower electrode power 0-1200 W
Process temperature: 55°C
Adjustable monochromator
Endpoint detection
With Decoupled Source Quartz (DSQ) strip module
AI Etching:
Standard recipe: 600/601
Etch rate: 800 nm/min
Photoresist etch rate: 400 nm/min
AI203 Etching:
Standard recipe: 640
Etch rate: 100-120 nm/min
Substrate, 6" diameter
Materials:
AI
AI203
Ti02
poly Si
Nb
Nitrides .
LAM RESEARCH 9600 Etcher/Asher est un graveur et asher entièrement automatisé, ultra haut débit, à la fine pointe de la technologie. C'est un équipement multi-chanbrés qui peut traiter une large gamme de substrats. La production de caractéristiques complexes et précises est ce que 9600 est construit pour faire extrêmement bien, tout en maintenant un long processus sans surveillance du temps. LAM RESEARCH 9600 est conçu pour soutenir simultanément plusieurs processus dépendants des recettes. Ceci est extrêmement utile dans un environnement de fabrication où des processus variables ou différents peuvent devoir être exécutés consécutivement. 9600 offre aux utilisateurs une flexibilité de choix entre trois processus primaires tels que la gravure, la passivation et le recuit. Cette flexibilité est rendue possible par ses quatre chambres de processus intégrées, chacune capable de réaliser des processus individuels pour jusqu'à 4 plaquettes. La chambre de gravure est unique en ce qu'elle permet l'utilisation de multiples gaz chimiques tels que le fluor, le trichlorure de bore, l'oxygène, le trifluorure d'azote, l'hexafluorure de soufre et le dioxyde d'azote. La chambre de passivation est conçue pour effectuer un processus chimique en phase vapeur, qui traite la plaquette avec une couche de protection contre la chaleur, l'humidité et la contamination chimique. Afin de fournir le débit le plus élevé possible, LAM RESEARCH 9600 est équipé de mécanismes de transfert à la fois verticaux et horizontaux. L'option de transfert horizontal est une plate-forme de chargement/déchargement automatisé, permettant un déplacement rapide des matériaux entre les chambres de processus. Ceci est particulièrement utile pour les gros lots. 9600 offre un contrôle ultra précis de la température, de la pression et des flux de gaz dans chaque chambre de procédé. Ce contrôle précis permet de créer des caractéristiques extrêmement précises, avec des tolérances de profondeur et de largeur précises. Le moniteur de métrologie intégré suit les paramètres du processus dans tout le système, ce qui permet un rendement plus élevé, une durée de cycle réduite et une meilleure optimisation du processus. LAM RESEARCH 9600 lance un puissant processeur basé sur x86 avec une unité d'exploitation LinuxMD éprouvée par l'industrie, capable de gérer jusqu'à 200 recettes. Des résultats stables et reproductibles permettent d'assurer la meilleure qualité de gravure et de passivation, avec une intervention manuelle minimale. 9600 est une solution robuste pour ceux qui ont besoin d'un graveur/asher fiable et efficace. Sa machine à chanfreins multiples, son contrôle de précision et sa plate-forme de chargement/déchargement automatisé lui donnent les capacités nécessaires pour répondre aux exigences des processus de gravure et de passivation complexes d'aujourd'hui.
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