Occasion LAM RESEARCH A 9608 PTX #9217816 à vendre en France

LAM RESEARCH A 9608 PTX est un graveur/asher anisotrope conçu pour fournir une gravure chimique en phase vapeur (CVD) plasma exacte. Il est devenu un outil très recherché pour les procédés avancés de lithographie et de dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). Il est utilisé pour la gravure de haute qualité des plaquettes avec une précision, une répétabilité et une uniformité extraordinaires pour les tailles de fonctionnalités jusqu'aux nanomètres. LAM RESEARCH A9608 PTX est la norme de l'industrie pour le processus de gravure interne d'outils de production (PTX). Il offre le même contrôle de processus et la même répétabilité que l'échange d'outils de production (PTX) et fournit des caractéristiques de gravure supérieures avec les conditions de processus les plus strictes. L'équipement fournit une fenêtre de procédé exceptionnellement large pour graver une variété de matériaux de substrat, y compris le silicium, les alliages métalliques, les nitrures et les oxydes. Un PTX 9608 supporte la gravure avancée par voie humide des métaux sans système de vide. Il offre des capacités de gravure plasma sec de précision, y compris la gravure isotrope, directionnelle et non directionnelle. A9608 PTX dispose d'un générateur RF de grande puissance, d'un générateur à fréquence variable, d'un sous-système programmable multi-axes de distribution de gaz et d'un sous-système avancé d'uniformité thermique. Cela permet de contrôler et d'ajuster avec précision les paramètres du processus, tels que la sélectivité de gravure et la couverture d'étape, pour obtenir un contrôle de fonctionnalités supérieur. Il dispose également d'une unité d'inspection haute résolution avec plusieurs optiques de capture d'image et options vidéo. LAM RESEARCH A 9608 PTX est très fiable, efficace et est doté d'un large éventail de configurations pour satisfaire les clients indépendamment de leurs exigences de processus. Son logiciel intégré de contrôle de processus permet de surveiller tous les paramètres de processus pendant la gravure en temps réel, et il a une opération de faible maintenance. La machine peut également supporter le traitement par lots pour jusqu'à huit substrats. LAM RESEARCH A9608 PTX est facile à installer et polyvalent dans l'application, soutenant une variété de processus de gravure, y compris la gravure anisotrope sèche, la chimie humide et l'oxydation par difusion. Il est très fiable et capable de graver par lots jusqu'à huit mesures. La source de plasma dispose d'un outil de détection automatique du point d'extrémité pour s'assurer qu'il n'y a pas de surgravure du substrat. Le débit de gaz réglable assure l'uniformité des débits de gravure quel que soit le type de substrat, ce qui entraîne moins de retravaillements, des rendements plus élevés et une réduction du temps de cycle. C'est un outil de gravure puissant et très efficace pour l'industrie des nanotechnologies qui peut être utilisé dans une grande variété d'applications.