Occasion LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182310 à vendre en France
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ID: 9182310
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open / Close (Manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Load lock:
Manual door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor included
Cassette type: 25 Slot cassette
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Aux position 1: Aligner
Chamber position 2:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
Chamber position 3:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1 est un équipement de pointe de graveur/asher conçu pour répondre aux exigences les plus rigoureuses en matière de fabrication de semi-conducteurs. Ce système utilise une technologie de pointe pour fournir le plus haut niveau de précision, de vitesse et de flexibilité dans les processus de gravure et d'ashing tout en conservant un débit supérieur. Le cœur de LAM RESEARCH Alliance 4.1 est son unité avancée de dépôt à haute capacité, qui permet des taux de dépôt de couches élevés tout en permettant une gravure uniforme inégalée. Cette machine utilise une architecture d'outils multi-étages pour obtenir des résultats de gravure supérieurs. Il utilise également une combinaison de systèmes d'accord gazeux à chaud et à froid afin de maintenir des vitesses de gravure optimales aux températures basses et élevées. L'actif comprend également un moniteur de débit de gaz unique pour détecter les fuites de gaz ou les irrégularités. LAM RESEARCH Alliance 4.1 assure un contrôle exceptionnel des processus grâce à l'outil avancé de développement de processus (PDT). Cet ensemble d'outils permet aux utilisateurs de développer et d'adapter leurs processus pour répondre à des besoins et paramètres spécifiques. Il est utilisé pour évaluer et ajuster des paramètres de chambre tels que pression, débit, température, mélanges gazeux, etc, afin d'obtenir des procédés de gravure parfaits et uniformes. Cet outil offre également un modèle de rétroaction en temps réel, permettant de prendre rapidement des problèmes en cas de problèmes liés au processus. LAM RESEARCH Alliance 4.1 offre également des caractéristiques de sécurité supérieures qui sont inégalées sur le marché. Un équipement de sécurité avancé garantit que les plaquettes ne sont pas exposées à des niveaux d'énergie nocifs tout au long du processus de gravure. En outre, plusieurs filtres en aval sont inclus pour protéger contre la possibilité de contamination en aval. Enfin, un système de commande robuste et fiable garantit que le processus n'est pas interrompu en raison d'une défaillance imprévue de l'unité. La conception globale et la fonctionnalité de LAM RESEARCH Alliance 4.1 en font l'un des systèmes de graveur/asher les plus compétitifs du marché. Son niveau de précision, de vitesse et de flexibilité le rend capable de s'attaquer à toute tâche de gravure et d'ashing. Ainsi, LAM RESEARCH Alliance 4.1 est le meilleur choix pour tous les besoins de fabrication de semi-conducteurs.
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