Occasion LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182311 à vendre en France

ID: 9182311
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1996
Etcher, 6" (3) System monitors TM LID: Cylinder open/close (manual type) Wafer present sensors (WPS) TM & VCE Pump option: Single pump type Fab clean room configuration: Bulkhead Robot: BROOKS / MTR 5 / (2) Blades Aux position 1: Aligner Transport system control: Transport VME Multiplexer PCB Load lock: Auto door VCE Elevator: Bellows seal Mapping sensor includes Cassette type: (25) Slots VCE Vacuum isolation valves TM Vacuum isolation valves TM Pneumatic valves Chamber position 1: 9400SE, 6" Chamber process: Poly Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 VAT 65 Pendulum valve RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz RF Generator bottom: ADVANCED ENERGY Halo 1250 13.57MHz Chamber position 2: 9400SE, 6" Chamber process: Poly Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 (Turbo missing) VAT 65 Pendulum valve (VAT Valve controller missing) RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz Chamber position 3: 9400SE, 6" Chamber process: Poly Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 (Turbo controller missing) VAT 65 Pendulum valve (VAT Valve controller missing) RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz Missing part: Position 2 / 3: RF Generator bottom: ADVANCED ENERGY Halo 1250 13.57MHz 1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1 est un équipement de gravure ou d'ashing, conçu spécifiquement pour la fabrication de composants électroniques et semi-conducteurs. Il s'agit d'une plate-forme avancée pour le dépôt de multiples caractéristiques sur des substrats simples ou multiples. Alliance 4.1 dispose d'une chambre de gravure haute performance, économique et techniquement avancée. Il offre des performances de processus de gravure robustes et fiables pour une grande variété de processus, de matériaux et d'applications. La capacité supérieure de gravure de l'Alliance 4.1 permet de déposer des caractéristiques avec une précision de pointe et une grande précision. Cela est réalisé grâce à ses structures avancées d'électrodes supérieures et inférieures et à l'utilisation de systèmes précis de gestion des matériaux. Le système utilise une orientation de substrat en angle inversé pour assurer un résultat de gravure précis. En outre, l'Alliance 4.1 dispose d'une interface utilisateur intégrée avec des capacités de contrôle avancées. L'unité est conçue pour permettre aux utilisateurs d'interagir facilement avec la chambre de gravure, y compris la programmation des paramètres spécifiques du processus de gravure. Cette machine de contrôle avancée peut être utilisée pour s'assurer que les résultats souhaités sont atteints tout en respectant les objectifs de coût et de processus. L'Alliance 4.1 dispose d'une chambre de gravure de précision de film ultra mince avec la capacité de produire des caractéristiques inférieures à 5 nanomètres. Il fournit également des procédés de gravure qui sont adaptés pour répondre aux besoins de haute précision, tout en maintenant le rapport coût-efficacité. De plus, la chambre de gravure Alliance 4.1 est conçue pour offrir une performance et une fiabilité optimales avec des besoins d'entretien minimes. La conception de l'outil permet une réaction rapide aux changements de processus et assure des résultats de processus répétables. En outre, les exigences d'entretien de l'actif sont minimes, ce qui en fait un excellent choix pour les applications sensibles aux coûts. En conclusion, LAM RESEARCH Alliance 4.1 est un modèle de gravure rentable et performant qui permet de déposer plusieurs caractéristiques sur des substrats uniques ou multiples avec une précision et une précision de pointe sur le marché. Son interface utilisateur intégrée et son équipement de contrôle avancé permettent de programmer précisément l'espace de gravure et de s'assurer que les résultats requis sont atteints. Par conséquent, l'Alliance 4.1 est un excellent choix pour les applications de haute précision et sensibles aux coûts.
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