Occasion LAM RESEARCH Alliance A4 9600 #9204633 à vendre en France
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Vendu
ID: 9204633
Etcher
(4) Chambers
Alliance (A4) mainframe
(4) 9600 SE Process modules (Used for metal etch process)
VCE Robotic arm extend drives
Auto door option
Bellows style cassette / Platforms
Wafer aligner
LL Slide sensor
Pre-post alignment
Magnatran 7 robot
PM1 Configuration:
Alliance 9600 SE:
Generator (X2): AE-RFG 1250
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP1303C
Electrostatic chuck included
Upgraded VAT 65 pendelum throttle valve
NOAH 3500 POU Chiller for ESC temperature control
Endpoint detector
With chan A-703 nm chan B 440 nm
Gases panel configuration:
Unit 1661 model MFC's (X6)
MFC1 SF6 200 sccm
MFC2 O2-Hi 50 sccm
MFC3 Ar 300 sccm
MFC4 O2-Lo 10 sccm
MFC5 NF3 100 sccm
MFC6 N2 100 sccm (Spare)
PM2 Configuration:
Alliance 9600 SE:
Generator (X2): AE-RFG 1250
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP1303C
Electrostatic chuck included
Upgraded VAT 65 pendelum throttle valve
NOAH 3500 POU chiller for ESC temperature control
Endpoint detector
With chan A-703 nm, chan B 440 nm
Endpoint monochonometer
Gases panel configuration:
Unit 1661 model MFC's (X6)
MFC1 SF6 200 sccm
MFC2 O2-Hi 50 sccm
MFC3 Ar 300 sccm
MFC4 O2-Lo 10 sccm
MFCS NF3 100 sccm
MFC6 N2 100 sccm (Spare)
PM3 Configuration:
Alliance 9600 SE:
Generator (X2): AE-RFG 1250
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP1303C
Electrostatic chuck included
Upgraded VAT 65 pendelum throttle valve
NOAH 3500 POU Chiller for ESC temperature control
Endpoint detector
With chan A-703 nm, chan B 440 nm
Endpoint monochonometer
Gases panel configuration:
Unit 1661 model MFC's (X6)
MFC1 SF6 200 sccm
MFC2 O2-Hi 50 sccm
MFC3 Ar 300 sccm
MFC4 O2-Lo 10 sccm
MFC5 NF3 100 sccm
MFC6 N2 100 sccm (Spare)
PM4 Configuration:
Alliance 9600 SE:
Generator (X2): AE-RFG 1250
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP 1303C
Electrostatic chuck included
Upgraded VAT 65 pendelum throttle valve
NOAH 3500 POU Chiller for ESC temperance control
Endpoint detector
With chan A-703 nm chan B 440 nm
Endpoint monochonometer
Gases panel configuration:
Unit 1661 model MFC's (X6)
MFC1 SF6 200 sccm
MFC2 O2-Hi 50 sccm
MFC3 Ar 300 sccm
MFC4 O2-Lo 10 sccm
MFCS NF3 100 sccm
MFC6 N2 100 sccm (Spare)
System peripherals and ancillary components:
Remote AC box (RPM)
Gas boxes per chamber ((4) Stackable)
(4) NOAH POU Chiller model 3500
Cathode cooling and temperature control
Includes:
3500 Controller or equivalent
Auxiliary rack for controllers.
LAM RESEARCH Alliance A4 9600 est un module graveur/asher conçu pour le traitement de précision de grands substrats. Il dispose d'une source RF de transmission, d'un plateau chauffant de fond à quatre zones et d'une grande chambre qui permet un traitement rapide et efficace. L'A4 9600 est idéal pour des applications telles que la gravure de métaux, de substrats de films épais et de films diélectriques. Pour les métaux, l'A4 9600 est capable de délivrer des densités de puissance jusqu'à 15w/cm2 à des fréquences RF comprises entre 200kHz et 1MHz, ainsi qu'une plage de température de fonctionnement de 200-400 ° C Il dispose d'une fonction de démarrage automatique qui permet une configuration facile de l'opérateur. De plus, le A4 9600 peut être étalonné pour obtenir un contrôle serré de l'uniformité, de la répétabilité et d'autres paramètres du processus. Pour les substrats de film épais, l'A4 9600 peut graver à des températures allant jusqu'à 400 ° C Ses capacités de contrôle de la pression de précision permettent d'ajuster le processus pour obtenir des caractéristiques fines. Il est également capable de graver des structures plus épaisses que celles disponibles avec les procédés de gravure traditionnels. Pour les films diélectriques, l'A4 9600 excelle dans la gravure contrôlée et précise des caractéristiques critiques. Sa capacité de double source permet la gravure simultanée de différents films tandis que son couplage thermique étroit améliore l'uniformité du processus de gravure. De plus, la source RF peut être facilement calibrée pour correspondre aux paramètres du processus. Dans l'ensemble, Alliance A4 9600 est un module graveur/asher idéal pour le traitement de précision de grands substrats. Sa source RF de transmission, son plateau chauffant de fond à quatre zones et sa grande chambre offrent un excellent contrôle et une uniformité des paramètres de processus. Sa large plage de température de fonctionnement, ses capacités de contrôle de la pression de précision et son couplage thermique étroit en font un excellent choix pour la gravure de film épais et la gravure de film diélectrique.
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