Occasion LAM RESEARCH Alliance A6 9600 PTX #9098070 à vendre en France

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ID: 9098070
Taille de la plaquette: 8"
Process Module, 8" Pressure Control: VAT 65 Upper Match Enclosure Fan Turbo Pump: BOCE 1300L Endpoint Filters: 405/703nm Monochromator Wafer Configuration: SEMI Missing parts: Lower match can RF match Lifter assy ISI upper match controller Upper heaters Harness and overtemp harness Card cage.
LAM RESEARCH Alliance A6 9600 PTX est un équipement de technologie de gravure par plasma à sec (DPT) pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un système multi-processus à double chambre qui permet d'effectuer des gravures multiples ou des opérations asher en une seule séquence. L'unité dispose d'une source de plasma et de composants de commande de puissance RF, ainsi que d'une chambre sous vide, d'un sas et de capabilités de mouvement. La chambre est également conçue avec un générateur de plasma RF et une plaque froide pour un traitement thermique optimal. Les composants principaux de la machine comprennent deux chambres de traitement indépendantes, une chambre de gravure et une chambre asher. La chambre de gravure est équipée d'une source hyperfréquence, d'une source de plasma RF/DC unique et de contrôleurs de sources RF entièrement automatisés pour des réglages de gravure précis. Il dispose également d'un outil fiable de livraison de substrat, ainsi que de systèmes de sécurité imbriqués pour aider à protéger les échantillons contre la contamination involontaire. L'actif LAM RESEARCH ALLIANCE A6-9600PTX peut être utilisé pour effectuer des opérations de gravure et d'asher telles que la gravure par ions réactifs profonds (DRIE), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et la réduction des dommages par gravure adiabatique. Il offre également une capacité de recuit avec une température programmable jusqu'à 600 ° C, ce qui le rend adapté pour le recuit avancé des plaquettes. Il offre une pression de procédé maximale de 40 mTorr avec une pression de base de 5 × 10-7 Torr, avec un taux de gravure efficace jusqu'à 130 nm/min. Le modèle a une puissance RF maximale de 1500 W avec une gamme de fréquences de 10 MHz-2.45 GHz. En outre, l'équipement offre un contrôle de processus très précis avec 6 paramètres plasmatiques qui peuvent être ajustés. Cet etcher/asher est très efficace, fournissant des séquences de processus reproductibles pour produire des résultats de haute qualité sur des substrats flexibles. En outre, l'interface graphique intuitive et les interactions de sécurité du système offrent une sécurité accrue pour l'opérateur, ce qui contribue à prévenir les dommages indésirables à l'échantillon et à la chambre de traitement. ALLIANCE A6 9600PTX est donc un excellent choix pour des opérations de gravure/asher efficaces pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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