Occasion LAM RESEARCH Alliance A6 9600 #9276388 à vendre en France

LAM RESEARCH Alliance A6 9600 est un équipement de gravure et de cendres de haute précision pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe. Le système offre des opérations de gravure et de balayage précises, répétables et fiables pour une variété de substrats, y compris des plaquettes de silicium, des métaux et des diélectriques. Il est conçu pour être utilisé dans des applications de gravure diélectrique nécessitant des taux de gravure élevés et une précision précise. L'unité est équipée de fonctionnalités technologiques avancées et d'options de contrôle conviviales intuitives pour offrir des performances et une flexibilité supérieures. Alliance A6 9600 dispose d'une chambre de gravure en ligne tétrafluorométhane (CF4) avec un contrôle précis du débit massique, offrant des profils de gravure hautement reproductibles jusqu'à 250 mm/s et une taille haute résolution de 2,5 mm x 2,5 mm. Une machine numérique optimisée de neutralisation des charges assure une excellente conformité à l'oxydation, réduisant la dérive de l'oxydation et maintenant dans ± 2V gamme. L'outil de gravure dispose également d'une source de faisceau d'électrons gaussiens annulaires de 8 points avec contrôle automatisé du profil et d'un générateur de motifs haute résolution capable de produire jusqu'à 0,02 μ m de largeur de ligne, ce qui le rend adapté à la production en grand volume de petits dispositifs. L'actif comprend un modèle de cendres intégré avec une chambre à cendres sous vide de 6 pouces offrant jusqu'à 2800 ° C de régulation de la température et un équipement d'alimentation en mélange de gaz 8 pour le débit rapide des plaquettes et la compatibilité des substrats. De plus, le système offre une unité intégrée de contrôle de l'hydrogène (HCS) pour améliorer la précision des paramètres, optimiser la sélectivité des photorésistants et éliminer la contamination par les cendres alcalines. LAM RESEARCH Alliance A6 9600 fournit toute la gamme de caractéristiques et de capacités nécessaires à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs haut de gamme. La machine est optimisée pour la compatibilité des processus, la productivité, le contrôle de l'uniformité et le débit, permettant des résultats de gravure rapides, précis et reproductibles d'une plaquette à l'autre et d'un lot à l'autre.