Occasion LAM RESEARCH Autoetch 490 #293697198 à vendre en France
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ID: 293697198
Plasma etcher, 6"
Type: Single-wafer processing
Configurable for 3"-6"
TFT Monitors upgraded
Wafer detection
Fully automated microprocessor control
Cassette-to-cassette wafer processing
Vacuum load locked
Programmable variable electrode spacing
Endpoint detection
Stand-alone or bulk-head mount
ENI RF Generator
No chiller
No pump.
LAM RESEARCH Autoetch 490 est un graveur/asher conçu pour graver rapidement et précisément des matériaux microélectroniques, jusqu'à des plaquettes de 12 pouces. Il est idéal pour une variété d'opérations de gravure utilisées pour fabriquer des circuits intégrés, y compris : gravure haute dimension, gravure par masque dur, tailles de caractéristiques jusqu'à 0,25 microns, gravure peu profonde et gravure profonde. Autoetch 490 dispose d'une chambre de gravure à vide, d'un équipement de distribution de gaz tamponné et d'un système de positionnement de substrat robotique précis. L'unité offre un contrôle de gravure de précision avec réponse milliseconde pour permettre un débit élevé pour les petites caractéristiques et les structures ultra-peu profondes. RECHERCHE LAM Autoetch 490 utilise une machine de positionnement robotique de haute précision pour correspondre précisément au taux de gravure sur les grandes plaquettes. Son outil sous vide est capable d'atteindre des pressions de traitement élevées dans la gamme milliTorr. Autoetch 490 intègre des liaisons de puissance pour fournir un fonctionnement très précis avec une taille de tir de 300nm. Il est équipé d'un actif de bombardement ionique pour maximiser la vitesse de gravure en réticulant les polymères et en assurant l'uniformité de la profondeur de gravure sur la surface du substrat. Il dispose également d'un modèle d'optimisation des gaz pour permettre des instructions de gravure, telles que des rapports d'aspect élevés, sans endommager la surface du substrat. L'équipement est également très sensible aux changements de vitesse de gravure et est équipé d'une technologie de détection de particules in situ pour surveiller les ions in situ, les gaz et les particules. RECHERCHE LAM Autoetch 490 propose une variété de modules de processus qui peuvent être intégrés dans son système de contrôle amélioré, comme une chambre de température pour l'accord du profil de gravure et une chambre d'argument pour l'accord rapide des taux de gravure. Il est également équipé d'une unité brevetée de neutralisation de charge pour contrôler efficacement les paramètres de gravure, améliorant les performances dans les applications de gravure nécessitant des rapports d'aspect élevés. Autoetch 490 est un outil idéal pour le traitement microélectronique et semi-conducteur, y compris la gravure peu profonde et la gravure profonde des couches de métal et d'oxyde métallique. La machine répond à la fois aux besoins industriels et de recherche, fournissant des résultats de gravure précis et reproductibles avec un temps de cycle court. Il s'agit d'une solution de gravure fiable, robuste et rentable conçue pour minimiser les coûts totaux.
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