Occasion LAM RESEARCH Autoetch 490B #9245067 à vendre en France

ID: 9245067
Automatic Plasma Etcher Includes: ENI OEM-6M-01 / OEM-6 XL RF Generator M&W SYSTEMS RPCX17A-D-DI2x10-LI-CMII-HE Flowrite recirculating cooling chiller system LAM RESEARCH 853-006117-001 Assy RF Match bulkhead LAM RESEARCH 853-001142-001 Automatch controller LAM RESEARCH 853-006233-001 Assy LAM RESEARCH 853-001983-005 End point detector assy TYLAN General AC-2 AdapTorr vacuum controller NOR-CAL PRODUCTS 796-008091-001 Pneumatic valve TYLAN General MDVX-015S08 Vacuum throttle valve TYLAN General CMLB-11S01 Pressure transducer, 10 Torr UNIT INSTRUMENTS UFC-1000 Mass flow controller, MFC, CF4, 100 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200 Mass flow controller, MFC, CHF3, 50 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200A Mass flow controller, MFC, CL2, 200 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200A Mass flow controller, MFC, He, 200 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200A Mass flow controller, MFC, SF6, 200 SCCM.
LAM RESEARCH Autoetch 490B est un équipement de graveur/asher avancé conçu pour un large éventail de processus de gravure et ashing. Il est équipé d'une gamme unique de fonctionnalités pour assurer des résultats optimaux à chaque fois. Le système se compose d'un ordinateur central, d'une unité de gaz tampon intégrée, d'une unité de contrôle de processus avancé (APC), d'une machine optique à haute résolution et d'une chambre verticale. L'ordinateur central est conçu pour un fonctionnement efficace avec une variété de systèmes de gaz qui fournissent des conditions optimales pour les processus de gravure et d'ashing. Il est équipé d'un conditionneur de température avancé pour un contrôle thermique précis et d'une pompe haute pression pour un fonctionnement performant. L'unité de gaz tampon intégrée assure un mélange précis des gaz de gravure et de cueillette, conduisant à une gravure et à une cueillette uniformes. L'outil Advanced Process Control (APC) fournit une foule de fonctionnalités pour assurer un contrôle optimal du processus. Cela comprend la détection du point final, la présentation automatisée du substrat, les paramètres réglables de la recette et le chargement automatisé du substrat. En outre, APC permet un suivi en temps réel des conditions de processus et des réglages automatiques avec l'enregistrement des données. L'actif Autoetch 490B est également doté d'un modèle optique haute résolution pour une modélisation précise. L'équipement est équipé d'une source d'éclairage haut de gamme pour une visibilité optimale, avec une source lumineuse lumineuse avec une optique haute résolution pour l'imagerie claire. Il dispose également d'un large champ de vision intégré pour des capacités de balisage étendues. Enfin, LAM RESEARCH Autoetch 490B est conçu avec une chambre verticale pour un fonctionnement stable. La chambre est conçue pour une efficacité maximale, avec un système de distribution uniforme pour assurer un chauffage et un refroidissement uniformes. De plus, la chambre dispose d'un régulateur de température réglable pour maintenir les conditions du processus dans des paramètres serrés. Dans l'ensemble, Autoetch 490B est une machine de gravure et de cendrage avancée dotée d'une gamme unique de fonctionnalités pour garantir des résultats optimaux à chaque fois. Avec son optique haute résolution, son unité de gaz tampon intégrée, ses paramètres de recette réglables, son chargement automatisé du substrat et sa détection au point final, LAM RESEARCH Autoetch 490B est un outil fiable pour les processus de gravure et de cueillette à haute performance.
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