Occasion LAM RESEARCH Autoetch 590 #293772678 à vendre en France

LAM RESEARCH 590 est un équipement de graveur/asher très avancé couramment utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet outil est conçu pour fournir des capacités de gravure et de cueillette précises et contrôlées pour divers matériaux sur des substrats tels que le silicium, l'oxyde de silicium, les films métalliques et d'autres matériaux organiques. LAM RESEARCH Autoetch 590 offre une large gamme de capacités de processus, ce qui le rend adapté à un ensemble varié d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. L'une des caractéristiques clés du 590 est sa technologie avancée de gravure par plasma, qui repose sur une combinaison de gaz réactifs et d'énergie RF pour éliminer sélectivement le matériau de la surface du substrat. Le système est équipé d'un générateur RF de forte puissance qui génère du plasma dans la chambre de procédé, qui interagit avec le substrat pour graver le matériau. L'unité dispose également de mécanismes précis de régulation du débit de gaz et de régulation de pression pour assurer une gravure uniforme sur le substrat. Autoetch 590 est équipé d'une chambre de verrouillage de charge, qui permet le chargement et le déchargement en toute sécurité des substrats sans exposer la chambre de procédé aux contaminants atmosphériques. Cela aide à maintenir un environnement de processus propre et assure une répétabilité et une fiabilité élevées des processus. La machine dispose également de multiples options de manutention de plaquettes, y compris des capacités de traitement par lots, permettant un débit élevé et l'efficacité dans la fabrication de semi-conducteurs. L'outil est capable de manipuler des substrats de différentes tailles, allant des petites plaquettes aux grands panneaux, ce qui en fait un outil polyvalent pour différents besoins de fabrication. LAM RESEARCH 590 propose une gamme de procédés de gravure et d'asher, y compris la gravure isotrope et anisotrope, le descum ashing et la résistance au strippage, entre autres. Ces procédés peuvent être facilement personnalisés et optimisés pour répondre à des exigences de fabrication spécifiques. LAM RESEARCH Autoetch 590 est équipé de fonctions avancées de surveillance et de contrôle des processus, y compris la détection in situ, la spectroscopie optique d'émission (OES) et un logiciel avancé de gestion des recettes de processus. Ces capacités permettent aux utilisateurs de surveiller et de contrôler le processus de gravure en temps réel, assurant un contrôle précis des paramètres critiques du processus et améliorant la performance et le rendement global du processus. L'actif est également conçu avec un accent sur la sécurité et la fiabilité, avec des fonctionnalités telles que des protocoles d'arrêt automatique, des systèmes de détection des fuites de gaz, et des boutons d'arrêt d'urgence. Ces mécanismes de sécurité contribuent à prévenir les accidents et à assurer le bien-être des opérateurs qui travaillent avec le modèle. En conclusion, 590 est un équipement de pointe de graveur/asher qui offre des capacités de gravure et d'ashing de haute performance pour des applications de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa technologie plasma de pointe, ses fonctions de contrôle de processus précises et ses options de traitement polyvalentes, Autoetch 590 est un outil précieux pour répondre aux exigences exigeantes des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs.