Occasion LAM RESEARCH / DRYTEK PS-80 #188465 à vendre en France

LAM RESEARCH / DRYTEK PS-80
ID: 188465
Pump Water flow: 3-7 L/Min Water temperature: 18C-30C (64F - 86F) Displacement: 47 cfm (1300l/m) @ 50 Hz 57 cfm (1600 l/m) @ 60 Hz Ultimate Pressure: 7.5 mTorr Motor Power Rating: 2.98 KW / 4 HP Voltage: 220-440V (50/60HZ) Connections: Inlet - NW50 Outlet - NW40.
L'équipement LAM RESEARCH/DRYTEK PS-80 etcher and asher est l'un des outils les plus polyvalents et avancés disponibles pour les applications de gravure et ashing. Il est conçu pour fournir des résultats fiables et reproductibles avec une excellente uniformité. Le système assure une gravure et un cendrage précis grâce à une température élevée, une puissance élevée et un contrôle précis des paramètres. DRYTEK PS-80 comprend un générateur RF haute fréquence pour la gravure et le cendrage de précision, ainsi qu'une chambre à plasma équipée d'une porte automatique et d'un patin personnalisé. Le générateur RF peut être réglé à des niveaux de puissance variables, et est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 600 ° C Le niveau de pression peut également être réglé manuellement, avec une plage réglable de 0 à 600 mTorr. L'unité PR permet aux utilisateurs de personnaliser les recettes de processus pour la gravure, et comprend une variété de fonctionnalités de sécurité avancées. La machine dispose d'un outil à vide chambre avec une pompe turbo-moléculaire et une pompe à ions de 100 litres par seconde. Ceci offre une excellente vitesse de pompage et d'évacuation de l'air à l'intérieur de la chambre, permettant une gravure et un cendrage précis. LAM RESEARCH PS-80 comprend également un générateur de chocs haute pression, qui permet d'utiliser des recettes de processus prédéfinies sans avoir à modifier les réglages manuellement. De plus, l'actif comprend une chambre de serrure facultative, permettant le transfert d'un plateau d'échantillons sans l'exposer à l'air libre. Pour l'isolement et l'évacuation du plasma, PS-80 comprend un modèle de vide automatisé en deux étapes et une source de plasma Oxyde- Agnostic™. Cela garantit un processus de gravure et d'ashing plus précis, avec une uniformité améliorée, et facilite et accélère le changement des recettes et des paramètres de traitement. LAM RESEARCH/DRYTEK PS-80 comprend également un équipement de livraison chimique, fournissant un contrôle précis des réactifs pour des processus de gravure et de cueillette équilibrés et précis. DRYTEK PS-80 etcher and asher system est un outil idéal pour les applications nécessitant une gravure et une cendre précises. Il permet aux utilisateurs de mieux contrôler les paramètres utilisés et d'atteindre des températures allant jusqu'à 600 ° C En outre, l'unité comprend une variété de caractéristiques de sécurité avancées, fournissant des résultats précis avec une excellente uniformité.
Il n'y a pas encore de critiques