Occasion LAM RESEARCH Dual frequency oxide chamber for Exelan A6 #9232416 à vendre en France

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ID: 9232416
Taille de la plaquette: 8"
8" Modified process chamber ESC Silicon showered Scroll pump and controller VME Box with boards Right angle valve Scroll pump controller Computer / Interface board Upper electrode Process kit Frame Missing parts: Box Chamber aluminum pieces Does not include: Gas box RF Set.
LAM RESEARCH Chambre d'oxyde à double fréquence pour Exelan A6 est un graveur/asher capable de gravure de haute précision pour créer des couches de motifs et d'oxyde sur des matériaux semi-conducteurs. Cet équipement est utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et est conçu pour réduire la charge, améliorer la définition des caractéristiques et minimiser les dommages au plasma. L'Exelan A6 utilise une alimentation à double fréquence, capable d'alimenter jusqu'à 10MHz. La chambre fonctionne avec une pression de procédé optimisée, créant un plasma multi-fréquence homogène pour développer une couche d'oxyde d'environ 1nm par 5 secondes. La chambre a une fenêtre de processus précise pour assurer la meilleure performance et la cohérence du modèle, et un film uniforme. La chambre utilise deux régulateurs de débit massique à grande vitesse (MFC), chacun ayant un corps en acier inoxydable résistant à la corrosion et une large plage de débit instantané pour fournir des résultats de gravure précis et reproductibles. Il dispose également d'un équipement d'arrosage inondé avec de l'eau chauffée pour le refroidissement et boucler la surface de la pièce pour la transparence du processus. La chambre dispose d'un système Auto-Vent intégré, amélioré par l'unité d'avancement intégrée du collecteur de gaz, permettant un enlèvement plus facile et plus rapide du substrat et le remplissage de la cuve. Le réseau d'impédance et d'adaptation permet à la machine de fonctionner avec une large gamme de niveaux de puissance, et offre une puissance RF optimale et une forme d'onde pour améliorer l'impact ionique sur le substrat. L'Exelan A6 est également équipé d'un bateau de wafer thermique en acier inoxydable avec une profondeur généreuse de 30mm. Les supports de substrat du bateau de wafer utilisent des mailles métalliques offre une dissipation thermique supérieure, permettant un cyclage thermique plus rapide et une uniformité de température améliorée, conduisant à des résultats de processus améliorés. Globalement, la chambre à double fréquence pour Exelan A6 est une machine très précise et efficace capable de produire des motifs précis et des couches d'oxyde sur des semi-conducteurs. Sa technologie et ses caractéristiques impressionnantes permettent une gravure de haute précision, une charge réduite, une meilleure définition des caractéristiques et des dommages plasmatiques minimisés.
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