Occasion LAM RESEARCH EOS #293601477 à vendre en France

Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
EOS
ID: 293601477
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2014
Etcher, 12".
LAM RESEARCH EOS est un graveur et asher conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il dispose d'une chambre de gravure puissante et entièrement intégrée qui offre une vitesse de gravure et une uniformité supérieures pour les processus critiques tels que les gravures et les coudes avant-arrière. L'équipement peut graver plusieurs couches en même temps et est capable de gravure de plaquettes de très haute précision. Système EOS peut être utilisé pour graver et asher une large gamme de matériaux, y compris le silicium, germanium, SOI, high-k, cuivre, aluminium, et tungstène. Il utilise une chambre de traitement fiable, monobloc, capable de fournir une uniformité de taux de gravure supérieure, avec une uniformité de +/-1 % sur l'ensemble de la plaquette. L'unité est capable de graver des plaquettes jusqu'à 200 mm de diamètre et peut traiter jusqu'à 200 plaquettes par heure. Pour assurer des processus homogènes et reproductibles, LAM RESEARCH EOS propose plusieurs modes de gravure et d'ashing, y compris des séquences monobloc, multicouche et multicouche. Cela permet d'améliorer le contrôle et la précision des processus grâce à leurs fonctions de réglage et de contrôle de saturation en micro-étapes. En outre, EOS dispose d'une variété de capteurs et de détecteurs, y compris un mécanisme de rétroaction en boucle fermée conçu pour détecter les gaz et les densités de processus ainsi que des capteurs thermiques qui surveillent la température du substrat pour garantir des conditions de processus idéales. LAM RESEARCH EOS est conçu pour des niveaux élevés de productivité et de qualité avec des capacités pour des processus précis et reproductibles. Il bénéficie de la technologie de procédé à plasma haute densité (HDP) brevetée LAM RESEARCH. Avec son ingénierie robuste, ses opérations rentables et son taux de gravure supérieur, EOS est idéal pour toute machine de gravure et de cendrage haute performance.
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