Occasion LAM RESEARCH EOS #293638918 à vendre en France

LAM RESEARCH EOS
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
EOS
ID: 293638918
Etchers.
LAM RESEARCH EOS est un graveur/asher spécialisé dans la gravure par ions réactifs profonds (DRIE) et la gravure au silicium. Cet équipement de pointe est conçu avec la dernière technologie pour assurer la précision et la répétabilité de ses processus de gravure sèche. Il offre une large gamme d'options de gravure avec une conception modulaire, permettant la personnalisation du système pour des performances de processus optimales et l'évolutivité pour le développement de processus. EOS est composé d'une source RF à fréquence variable qui fonctionne jusqu'à 13MHz, de canaux de distribution indépendants avec des capacités de débit variable, et d'un contrôleur multi-polarisation pour la tension de polarisation variable et la durée de traitement. Il fournit des résultats de gravure cohérents de haute qualité pour diverses applications, y compris MEMS, CMOS et silicium sur isolant (SOI). LAM RESEARCH EOS est configuré dans une configuration traditionnelle de gravure réfléchissante à flux inverse, avec un design de cage avancé avec un backwall planaire qui offre des gravures rapides et efficaces. EOS dispose également d'un support et d'un ajusteur de substrat brevetés et auto-alignés pour positionner les substrats dans le plan optimal à l'intérieur de la chambre de gravure. On assure ainsi un traitement uniforme de chaque substrat et couche, et on élimine l'intervention manuelle. De plus, le système est équipé d'une cavité RF intégrée qui élimine les problèmes d'ondes stationnaires et diminue la variabilité du processus de gravure. RECHERCHE LAM Les capacités avancées de contrôle et de surveillance des processus d'EOS fournissent aux utilisateurs un contrôle et une automatisation complets des processus pour garantir des résultats reproductibles. Le contrôleur permet aux utilisateurs de programmer et de surveiller séparément chaque recette de chambre de gravure, tandis que la fonction adaptative de réglage RF offre une répartition uniforme de la puissance RF pour garantir des performances de gravure optimales. La gravure en mode constant et impulsionnel peut être programmée, ainsi que plusieurs opérations en chambre. Dans l'ensemble, EOS etcher/asher est un graveur numérique de haute précision équipé d'une technologie de pointe pour garantir des résultats reproductibles pour de nombreuses applications de gravure. Utilisant des sources RF à fréquence variable et des contrôleurs multipartites, LAM RESEARCH EOS offre aux utilisateurs une automatisation totale des processus, permettant un développement personnalisé des processus. Avec ses caractéristiques avancées, y compris des fixations auto-alignées et des régleurs de substrats, une distribution RF contrôlée, et sa capacité à exécuter des opérations à plusieurs chambres, EOS est une solution idéale pour des processus de gravure très précis.
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