Occasion LAM RESEARCH Flex 45 #9315042 à vendre en France

LAM RESEARCH Flex 45 est un équipement de gravure et d'ashing conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système utilise des processus inductifs pulsés couplés à distance plasma pour obtenir une gravure durable, répétable et de faibles dommages ashing. Comme son nom l'indique, il comporte des chambres de processus à 45 ° qui permettent un plasma plus uniforme, un meilleur contrôle du profil des bords, une meilleure définition latérale des trous et un nettoyage uniforme des surfaces. En outre, Flex 45 dispose d'une alimentation en fréquence de sortie variable pour un réglage précis du processus, ce qui le rend idéal pour la gravure de couche critique. L'unité dispose également de plusieurs capacités de surveillance avancées, telles que des capteurs de vitesse de gravure en temps réel, l'allumage optique in situ et une machine de surveillance in situ. Cet outil de pointe permet une gravure précise et répétable, ce qui en fait un excellent outil pour des structures complexes et des tolérances extrêmement serrées. LAM RESEARCH Flex 45 dispose de contrôles de processus avancés pour assurer la cohérence entre les appareils et les processus. Il est équipé d'une variété d'outils de processus automatisés, y compris la durée variable des impulsions, les options de contrôle de la forme des ondes, et le contrôle de la pression et de la température. Ceci est combiné avec des capacités de refroidissement en deux étapes pour une large gamme de paramètres de gravure et d'ashing. En outre, le Flex 45 offre également une capacité de mesure et de correction de l'uniformité zonale et globale, ainsi qu'une compensation d'erreur avancée pour différentes conditions et cycles de processus. Cela garantit des résultats de haute qualité qui peuvent être reproduits à maintes reprises, ce qui le rend idéal pour des séries de production à haut volume. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH Flex 45 est un outil de gravure et de cueillette avancé et précis pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ses chambres cintrées permettent des densités de plasma uniformes, un excellent contrôle du profil des bords et un nettoyage uniforme des surfaces. Avec des puissances de fréquence de sortie variables et des contrôles de processus avancés, ce modèle est adapté pour la gravure de couche critique et pour obtenir des résultats reproductibles et de haute qualité.