Occasion LAM RESEARCH Flex 45 #9378664 à vendre en France

LAM RESEARCH Flex 45 est une gravure/aspère avancée adaptée à une grande variété d'applications de gravure et aspé. Il s'agit d'un équipement multi-plaques monobloc conçu pour des processus de gravure à haut débit, haute sélectivité et asper. Le système est équipé de puissantes sources de gravure Résonant Helicon et Hot Wall ICP, permettant un contrôle précis des paramètres de processus pour des recettes de gravure sophistiquées. Il dispose également d'un logiciel de contrôle de processus avancé, permettant un contrôle de processus inégalé, du substrat au substrat. Flex 45 peut accueillir une large gamme de substrats jusqu'à 3mm d'épaisseur, et peut effectuer la gravure avec une très haute répétabilité et précision. Il prend en charge des débits allant jusqu'à 40 Wafers par heure (WPH) ainsi que des recettes de gravure complexes avec contrôle complet du processus. L'unité supporte également des procédés tels que la gravure isotrope, la gravure anisotrope, la gravure en creux, la gravure photorésist et hardmask, et le contrôle des caractéristiques de surface. La source hélicoïdale résonnante de la machine a été conçue avec une technologie d'accord propriétaire qui fournit une puissance réglable, une forme d'onde et une fréquence. Cela permet aux utilisateurs d'ajuster les résultats du processus tels que la vitesse de gravure, la forme du profil, la sélectivité du processus, l'uniformité de l'asper et les angles latéraux du film. La source du PCI qui l'accompagne permet des processus avec un très faible taux de gravure et un profil de gravure isotrope. La source hélicoïdale résonante permet également une profondeur de gravure très uniforme avec une gravure de base faible et uniforme. La précision de la profondeur peut atteindre ± 1 %. LAM RESEARCH Flex 45 offre une large gamme de fonctionnalités et d'options qui permettent aux utilisateurs d'adapter l'outil à leurs besoins. L'actif Loadlock est équipé d'un modèle de contrôle de pression, avec des options atmosphériques et à vide élevé. Cela permet un chargement et un déchargement rapides du substrat, tout en diminuant la contamination. L'équipement dispose également d'une fonction de commande de mouvement motorisée pour les pinces de substrat automatisées, et d'une source de gravure à paroi chaude à intensité variable conçue pour les processus de gravure avancés. Flex 45 offre également une solution d'imagerie en écriture directe, permettant aux utilisateurs d'écrire directement sur le substrat. Cette fonctionnalité réduit la variabilité en éliminant le besoin de masquer ou de transférer un réticule, permettant ainsi aux utilisateurs de raser un temps précieux tout en augmentant la précision. Le système est compatible avec les vannes pneumatiques et souples pour le contrôle du processus, permettant un contrôle précis de l'environnement du processus. Enfin, LAM RESEARCH Flex 45 offre également des fonctions de profilage numérique, de traçage et de surveillance vidéo entièrement automatisées. Il dispose d'un contrôle cyclonique avancé, d'une unité innovante de surveillance des dimensions critiques et d'une option de vidéo numérique à la demande qui permet aux utilisateurs de « regarder » les progrès de la gravure en temps quasi réel. Avec ses caractéristiques de pointe et ses capacités de contrôle des processus, Flex 45 est un graveur et asper idéal pour une variété d'applications de gravure et asper.