Occasion LAM RESEARCH Flex 45 #9407023 à vendre en France

Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
Flex 45
ID: 9407023
Style Vintage: 2009
Etcher (4) Chambers AC Rack VTM RPDB GIB Main frame: Platform type: V2 (3) Load ports ATM Robot TM Robot I-Pump PM Module: (4) CPU (4) VIOP (4) ESC Power supplies (4) OES (4) ESC Gas: Gas box type: IGS (17) Gas lines (68) Gas boxes MFC (9) He UPC Vacuum gauge: (4) Process vacuum gauges, 0.1 Torr (4) Chamber vacuum gauges, 1 Torr (4) Fore line vacuum gauges, 10 Torr TM Vacuum gauge (2) Air lock vacuum gauges (2) Air lock heating gauges Pump: (4) Turbo pumps (4) Turbo pump controllers RF Generator / Matcher: (4) RF Generators, 2 MHz (4) RF Generators, 27 MHz (4) RF Generators, 60 MHz (4) RF Cable lengths, 2 MHz (4) RF Cable lengths, 27 MHz (4) RF Cable lengths, 60 MHz 2009 vintage.
LAM RESEARCH Flex 45 est un équipement de graveur/asher pour l'industrie des semi-conducteurs. Le système est basé sur la technologie plasma haute densité, et est conçu pour graver et nettoyer les plaquettes grâce à la puissance pulsée haute fréquence. Cela permet de modeler de haute précision des fonctionnalités avancées tout en maintenant un débit optimal. L'unité utilise le réseau de distribution RF de LAM qui est conçu pour assurer la meilleure uniformité dans les couches de gravure critiques, tout en fournissant un environnement avec un contrôle maximal des processus afin de réduire les pertes de plaquettes. La machine est équipée de deux générateurs haute fréquence de grande puissance et de deux électrodes à cage Faraday en anneau. Les électrodes de cage Faraday contribuent à assurer l'uniformité du plasma et des capacités de gravure prévisibles, tandis que les deux générateurs haute fréquence et haute puissance permettent un contrôle précis de la fréquence du plasma. Ce contrôle est crucial pour les processus de gravure, car il permet aux utilisateurs d'adapter le processus de gravure à leurs besoins spécifiques. L'outil dispose d'un outil avancé de contrôle et de surveillance des processus, permettant de suivre avec précision le suivi et l'historique des plaquettes, ce qui facilite le débogage et l'optimisation. Le modèle est protégé par un rideau d'air et comprend un équipement sous vide pour l'évacuation partielle, l'environnement à faibles particules et le nettoyage des plaquettes. En outre, le système a une capacité de bande sèche, permettant l'élimination des couches de photorésist indésirables des structures fines. L'unité est construite avec une architecture modulaire pour assurer un temps de disponibilité maximum tandis que l'opérateur peut facilement sélectionner ou modifier les recettes de processus appropriées. La machine est conçue pour permettre l'utilisation de composants matériels standards tels que des pompes, des alimentations et des chauffages, pour modifier et mettre à niveau rapidement les configurations existantes. L'outil dispose également de capacités de métrologie avancées, offrant une intégration complète avec des systèmes de métrologie automatisés pour optimiser davantage le processus et développer des recettes. Enfin, l'actif est équipé de capacités de cartographie automatisée des ondes lumineuses, permettant une uniformité supérieure entre les plaquettes. Dans l'ensemble, le modèle Flex 45 etcher/asher est une technologie de pointe avec une capacité de gravure et de nettoyage de haute précision, un contrôle et une surveillance sophistiqués des processus, et des capacités de métrologie optimisées. Cet équipement est conçu pour assurer un débit maximal, des environnements de particules faibles et des couches de gravure de haute précision, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs.
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