Occasion LAM RESEARCH FLEX DS #293642654 à vendre en France

LAM RESEARCH FLEX DS est un graveur/asher polyvalent et fiable conçu pour répondre aux besoins de la fabrication de semi-conducteurs. Il utilise une technologie Dual Source pour optimiser le profil de gravure et l'uniformité des dépôts à travers le substrat. Cette technologie utilise deux sources distinctes pour le bombardement ionique et le flux ionique afin d'assurer l'uniformité et la haute performance. FLEX DS dispose également d'un équipement indépendant Chuck-to-Wafer-Distance (CWD) permettant un contrôle dynamique de la température et de la pression du procédé pendant le processus de gravure. Cela élimine la nécessité d'ajustements manuels et garantit des résultats de gravure précis. La pression est réglable entre 0,5 bar et 10 bar, et la température est réglable entre 25C et 600C. Le système utilise une unité de délivrance chimique pour contrôler avec précision la concentration de la gravure à plasma inductif (ICP) ou de la chimie asher. Cette précision permet un résultat de gravure optimisé sans l'utilisation de couches de masquage. LAM RESEARCH FLEX DS est équipé d'outils de diagnostic de pointe permettant une grande précision dans le contrôle et l'optimisation des résultats de gravure ou asher. Ces outils fournissent un rapport complet sur le processus en temps réel, permettant l'optimisation du processus. Sa machine de refroidissement avancée permet des taux de gravure élevés en temps de traitement long. L'outil est conçu pour un entretien facile avec une unité de base entièrement fermée. Cela permet un accès rapide à tous les principaux composants de l'actif, maximisant le temps de disponibilité et l'efficacité du modèle. FLEX DS etcher/asher est idéal pour le traitement des matériaux à base de semi-conducteurs. C'est une solution fiable et rentable pour les processus de gravure ou d'ashing qui nécessitent une précision et une précision élevées. Sa conception conviviale, ses composants à haute efficacité et ses outils de diagnostic avancés en font l'outil idéal pour les processus les plus difficiles.