Occasion LAM RESEARCH INOVA NEXT #9138133 à vendre en France

LAM RESEARCH INOVA NEXT
ID: 9138133
Style Vintage: 2012
PVD Chambers, 2012 vintage.
LAM RESEARCH INOVA NEXT est un équipement de pointe de gravure et de cendrage conçu pour des applications critiques nécessitant une productivité élevée, un contrôle optimal des processus et des résultats de précision de la plus haute qualité. INOVA NEXT est parfait pour les fabricants de semi-conducteurs qui ont besoin de capacités de production plus avancées que jamais. LAM RESEARCH INOVA NEXT est un système de gravure et d'ashing entièrement automatisé et intégré avec des fonctionnalités puissantes telles que l'automatisation des processus, les capacités de métrologie de précision, et la prospective dans le nettoyage des fenêtres et les traitements des substrats. INOVA NEXT offre un débit accru, y compris des temps de cycle bas, un chargement et un déchargement simultanés, et des transitions rapides de chambre - jusqu'à 20 % plus rapide que les modèles précédents. La conception innovante de sa chambre de procédés réduit la production de particules et atténue le risque de contamination. Son unité de protection intelligente permet de maintenir une propreté optimale en mesurant les paramètres clés et en ajustant les processus en temps réel. LAM RESEARCH INOVA NEXT est également livré avec un contrôle de processus de haute qualité, offrant une solution complète pour les processus de gravure. Il dispose d'une capacité de prévisualisation de processus dédiée qui permet de simuler des processus de gravure sèche avec une caractérisation complète du substrat. Il en résulte une amélioration du rendement fab et de l'optimisation des procédés, ainsi qu'une plus grande flexibilité pour le développement et l'amélioration du rendement en aval. En outre, ses nombreuses options de connexion permettent une intégration et une flexibilité maximales dans la mise à l'échelle des grappes limitées à maximales. Cette machine innovante supporte parfaitement les technologies GaAs, III-V, silicium et autres. INOVA NEXT prend également en charge le fonctionnement de la turbine, qui débloque l'accès à la gamme complète des procédés de gravure disponibles sur l'outil epi/métal. Cet outil est un choix idéal pour les utilisateurs qui recherchent le procédé de gravure métallique le plus précis et le plus efficace. Enfin, LAM RESEARCH INOVA NEXT offre une fiabilité de pointe et des dépôts conformes, ce qui permet d'optimiser les paramètres de traitement et de réduire les temps de retournement. La conception unique et robuste de ses composants réduit les temps d'arrêt, tandis que ses capacités de métrologie avancées garantissent les résultats les plus précis. Ainsi, dans l'ensemble, INOVA NEXT est le choix parfait pour les applications de gravure et d'ashing qui nécessitent des performances fiables et les résultats de la plus haute précision. Avec ses capacités avancées d'automatisation et de contrôle, de contrôle et d'intégration de processus de haute qualité, et des capacités de dépôt 3D conforme, il est un choix idéal pour de nombreux types d'applications de semi-conducteurs.
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