Occasion LAM RESEARCH Kiyo EXP #9311228 à vendre en France

LAM RESEARCH Kiyo EXP est un graveur/asher utilisé spécifiquement pour le traitement des semi-conducteurs. Il s'agit d'un système de gravure/ashing monobloc conçu pour assurer un contrôle précis des gaz de procédé et un débit rapide pour des géométries de processus complexes et ultra-petites. Kiyo EXP est capable de débit élevé, avec une capacité maximale de 150 wafers par heure. Sa conception avancée minimise la turbulence du flux d'air et les résidus chimiques, permettant des rendements de processus reproductibles. RECHERCHE LAM Kiyo EXP dispose d'un procédé breveté de gravure réactionnelle améliorée à faible débit (REE) qui peut atteindre une vitesse de gravure de l'ordre de 200 nm/min. Il offre une plus grande sélectivité que les techniques de gravure traditionnelles, minimise Redeposition, permet l'enlèvement du dépôt sans surgravure, et améliore le rendement. Kiyo EXP est compatible avec les processus de gravure organique et inorganique, y compris la gravure ionique réactive (Deep-RIE), la gravure sèche et la gravure humide. Ses taux de gravure élevés et ses sélectivités le rendent idéal pour graver SiO2, SiNx et SiOC. Il est également capable de gravure à haut rapport d'aspect et de gravure anisotrope pour des applications de mémoire et de dispositifs logiques. RECHERCHE LAM Kiyo EXP dispose d'une plage de fonctionnement chimique de 12 pouces de mercure (mm/Hg) à 1000 mm/Hg et d'une plage de température de -25 ° C à + 400 ° C Il comporte un contrôleur de débit massique embarqué (MFC) optionnel pour un contrôle précis des gaz, et un système de contrôle de gaz inerte pour le fonctionnement de la chimie des gaz à des températures supérieures à 400 ° C Kiyo EXP dispose également d'un générateur RF haute puissance qui peut fournir jusqu'à 2000 watts de puissance pour les processus de gravure. RECHERCHE LAM Kiyo EXP est un graveur/asher monobloc fiable et précis idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs nécessitant une gravure précise, un débit élevé et une gamme de températures et d'atmosphères chimiques. Son procédé breveté REE offre une plus grande sélectivité que les techniques de gravure traditionnelles, ce qui contribue à améliorer le rendement et la répétabilité du procédé.