Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed #293615958 à vendre en France

LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed
ID: 293615958
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
CVD System, 12" 2007 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed est un équipement de gravure et d'ashing pour le traitement de fabrication de plaquettes semi-conductrices. La plate-forme NOVELLUS Speed offre une capacité de traitement avancée et une flexibilité pour les applications de gravure et de cendres. Il combine le système avancé Plasma-Etch de LAM et les technologies de fabrication de cendres NOVELLUS. Cette plateforme est conçue pour les dernières technologies de produits CMOS et semi-conducteurs, y compris 3D NAND, Unit-on-Chip (Soc), MEMS, RF et RF-SOI. LAM RESEARCH Speed offre le plus haut débit de gravure et de cendres sur le marché, permettant aux clients de maximiser la productivité et de minimiser les temps d'arrêt. Grâce à sa technologie de pointe, il est conçu pour minimiser la contamination des particules, assurer un contrôle serré de l'épaisseur des films et fournir des concentrations de particules extrêmement faibles. La machine offre la meilleure évolutivité et répétabilité dans l'industrie, tout en offrant une flexibilité maximale sur tous les processus semi-conducteurs. La vitesse a une large gamme d'applicabilité, y compris la gravure par plasma, la gravure sèche, le balisage, la lithographie, la planarisation et le broyage ionique. Les chambres de gravure plasma sont conçues pour fournir la plus grande uniformité dans l'industrie, avec la capacité d'affiner les processus de gravure pour obtenir les meilleurs résultats. Les alimentations RF peuvent être utilisées pour les processus de gravure et de cendres, offrant une large gamme d'options de processus. La chambre à cendres est conçue pour fournir un taux de cendres constant sur plusieurs plaquettes, permettant de contrôler les caractéristiques électriques pour un large éventail d'applications. L'outil dispose d'excellentes capacités de contrôle de processus, permettant un contrôle serré de l'épaisseur du film et de la concentration des particules. L'actif peut être exécuté dans les modes Open ou Closed Loop, chacun offrant ses propres avantages. Le mode Boucle ouverte offre la plus grande flexibilité, tandis que le mode Boucle fermée offre les performances et le rendement les plus élevés. De plus, LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed combine des technologies au niveau des modèles et des processus pour optimiser les paramètres des processus en temps réel. Ceci permet d'améliorer le rendement et le débit avec des temps d'attente réduits entre les cycles. La plateforme NOVELLUS Speed offre une solution complète pour le traitement des semi-conducteurs les plus avancés. Il offre le plus haut débit de gravure et de cendres disponibles, un contrôle serré de l'épaisseur du film, et la meilleure évolutivité pour fournir les plus hauts rendements dans l'industrie. Avec ses systèmes de contrôle avancés et ses plateformes de processus puissantes, LAM RESEARCH Speed est le choix idéal pour les clients qui cherchent à maximiser la flexibilité et le débit des processus.
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