Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express #293800039 à vendre en France

ID: 293800039
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
System, 12" Primary process module: SION Secondary process module: PEOX RPC Generator: Astron EX RF Configuration: SIRF Interconnect cable length: 100 ft Heated top plate Nickel-plated chamber Top plate tubing size, 1/4" Chemraz chamber gate valve Apex HF Generator: 3 kW PDX 2500 LF Generator Chemraz O-Rings Process manometer (4) Viewports Servo spindle Pedestal, 12" Minimum Contact Area (MCA): Pin and ball Carrier ring Standard shower head Rapid pin kit Gas box options: Gas box interlock: H2 on channel 3 13-Channels Non-standard system features: NSR504691 NSR505199 UI Options: Ballroom UI Location: Left 4-Color light tower Front signal tower mount: Buzzer arm mount Facial color: Sky white BROOKS AUTOMATION ATM Robot Friction end effector (2) FOUPs BROOKS Load port type BROOKS RFID Reader Mini environment lamp color: Yellow No ionizer kit TAKEX Light curtain option EMO FFU KASHIYAMA NV60 Load lock pump PC With cart Cable length: 50 feet Operating system: Windows 2000 2010 vintage.
LAMLAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express est un graveur/asher de haute performance utilisé pour diverses applications industrielles. L'équipement est conçu pour graver et/ou cendre une grande variété de matériaux semi-conducteurs, y compris le silicium et le verre de silice dopé. Il est capable de graver des caractéristiques jusqu'à 10 microns de largeur et jusqu'à 200 microns de profondeur. Le système NOVELLUS Vector Express comprend une unité de traitement principale, un module de traitement du gaz et une télécommande. L'unité principale de traitement se compose d'un régulateur de débit massique, d'alimentations électriques, d'un générateur RF, d'une serrure de charge et d'un poste de recuit. Le module de manutention des gaz alimente la chambre en gaz de procédé, y compris l'agent de gravure et de protection, si nécessaire. La serrure de chargement peut contenir jusqu'à deux plaquettes et permet un chargement et un déchargement rapides de l'unité. LAM RESEARCH Vector Express est équipé de différents procédés de gravure, y compris la gravure humide anisotrope pour l'isolement de silicium ou de micro-tuyaux en verre. Son procédé Multi Step Etch (MSE) permet la création de tranchées profondes avec la forme requise sans entraîner de défauts ou de rupture. Il fournit également un procédé de gravure de dispositif Bosch, qui est un procédé de gravure à base de photolithographie utilisé pour créer les formes requises en contact étroit avec le silicium. Vector Express propose également du recuit. Ce procédé permet de modeler les plaquettes sans fissuration, réduisant les défauts indésirables et améliorant les rendements. Selon le matériau, un recuit thermique rapide basse pression, un recuit RF basse pression ou un recuit RF basse tension peuvent être appliqués. La machine offre également la possibilité d'utiliser un plasma O2 pour le désamorçage supplémentaire et pour le nettoyage sans oxyde des caractéristiques gravées. En conclusion, l'outil LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express est un outil performant capable de fournir des rendements élevés pour diverses applications industrielles. Il offre une large gamme de procédés de gravure pour différents matériaux, y compris l'isolation et la co-intégration de différents matériaux. Il offre également des procédés avancés de recuit et de nettoyage à plasma d'oxygène pour optimiser les rendements et réduire les défauts.
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