Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express #293800039 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293800039
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
System, 12"
Primary process module: SION
Secondary process module: PEOX
RPC Generator: Astron EX
RF Configuration: SIRF
Interconnect cable length: 100 ft
Heated top plate
Nickel-plated chamber
Top plate tubing size, 1/4"
Chemraz chamber gate valve
Apex HF Generator: 3 kW
PDX 2500 LF Generator
Chemraz O-Rings
Process manometer
(4) Viewports
Servo spindle
Pedestal, 12"
Minimum Contact Area (MCA): Pin and ball
Carrier ring
Standard shower head
Rapid pin kit
Gas box options:
Gas box interlock: H2 on channel 3
13-Channels
Non-standard system features:
NSR504691
NSR505199
UI Options: Ballroom
UI Location: Left
4-Color light tower
Front signal tower mount: Buzzer arm mount
Facial color: Sky white
BROOKS AUTOMATION ATM Robot
Friction end effector
(2) FOUPs
BROOKS Load port type
BROOKS RFID Reader
Mini environment lamp color: Yellow
No ionizer kit
TAKEX Light curtain option
EMO
FFU
KASHIYAMA NV60 Load lock pump
PC With cart
Cable length: 50 feet
Operating system: Windows 2000
2010 vintage.
LAMLAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express est un graveur/asher de haute performance utilisé pour diverses applications industrielles. L'équipement est conçu pour graver et/ou cendre une grande variété de matériaux semi-conducteurs, y compris le silicium et le verre de silice dopé. Il est capable de graver des caractéristiques jusqu'à 10 microns de largeur et jusqu'à 200 microns de profondeur. Le système NOVELLUS Vector Express comprend une unité de traitement principale, un module de traitement du gaz et une télécommande. L'unité principale de traitement se compose d'un régulateur de débit massique, d'alimentations électriques, d'un générateur RF, d'une serrure de charge et d'un poste de recuit. Le module de manutention des gaz alimente la chambre en gaz de procédé, y compris l'agent de gravure et de protection, si nécessaire. La serrure de chargement peut contenir jusqu'à deux plaquettes et permet un chargement et un déchargement rapides de l'unité. LAM RESEARCH Vector Express est équipé de différents procédés de gravure, y compris la gravure humide anisotrope pour l'isolement de silicium ou de micro-tuyaux en verre. Son procédé Multi Step Etch (MSE) permet la création de tranchées profondes avec la forme requise sans entraîner de défauts ou de rupture. Il fournit également un procédé de gravure de dispositif Bosch, qui est un procédé de gravure à base de photolithographie utilisé pour créer les formes requises en contact étroit avec le silicium. Vector Express propose également du recuit. Ce procédé permet de modeler les plaquettes sans fissuration, réduisant les défauts indésirables et améliorant les rendements. Selon le matériau, un recuit thermique rapide basse pression, un recuit RF basse pression ou un recuit RF basse tension peuvent être appliqués. La machine offre également la possibilité d'utiliser un plasma O2 pour le désamorçage supplémentaire et pour le nettoyage sans oxyde des caractéristiques gravées. En conclusion, l'outil LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express est un outil performant capable de fournir des rendements élevés pour diverses applications industrielles. Il offre une large gamme de procédés de gravure pour différents matériaux, y compris l'isolation et la co-intégration de différents matériaux. Il offre également des procédés avancés de recuit et de nettoyage à plasma d'oxygène pour optimiser les rendements et réduire les défauts.
Il n'y a pas encore de critiques