Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Extreme #9293142 à vendre en France

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ID: 9293142
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
CVD System, 12" Power option: K-Model Interconnect cable length: 22 m Server type: DS/ EC Process module options: Process capability: HDR DB SiN / USG / SiN / ARL ASTRON HF-S (15L) RPC Generator RF Configuration: SiRF kit Heated top plate: Passive Hot chamber cover APEX 5513 HF Generator PDX 2500 LF Generator ADVACED ENERGY Navigator HF Matcher COMDEL LF Matcher, Two channel fixed matcher Process manometer: Heated, 10 Torr Hasting gauge pm Hastings gauge foreline (5) View ports Spindle type: Servo Pedestal option: Low profile Minimum Contact Area (MCA): Pin, ball Carrier ring: Standard Pendulum valve: VAT Lift pin: Servo type Shower head, 13" EIOC Configuration: Standard IR EPD Foreline type: Symmetric Gas box configuration: Standard 12 channels UI Option: Standard UI Location: Right / Left Signal tower Front signal: Buzzer arm mount Fascia color: Sky white BROOKS AUTOMATION Reliance 9 ATM Robot BROOKS AUTOMATION Mag 8 Vacuum robot End effector: (2) Arms / Friction type (4) FOUPs BROOKS AUTOMATION / JENOPTIK Vision Load port OMRON RFID Reader Lamp Ionizer kit Light curtain option Additional front end EMO Load lock: Standard In / Out bound load lock Filter Fan Unit (FFU) Option Chase computer with cart Throttle valve type: NORCAL 2008 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Extreme est un graveur et asher de classe mondiale pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est spécifiquement conçu pour fournir une précision avancée et de faibles défauts pour les opérations critiques de gravure et de cendres. NOVELLUS Vector Extreme utilise une technologie révolutionnaire de traitement de plasma haute densité à double source pour améliorer le contrôle, réduire la production de particules et augmenter le débit pour les applications de gravure de fin de ligne. Il prend également en charge une large gamme de produits chimiques de gravure pour permettre une optimisation polyvalente des processus et un traitement rentable des dispositifs nodaux avancés. LAM RESEARCH VECTOR EXTREME etcher/asher offre une flexibilité et une évolutivité maximales pour diverses structures et applications d'appareils, tout en prenant en charge une large gamme de formats, tailles et tailles de paquets. Il dispose d'une plate-forme de 750mm hautement configurable et est capable de manipuler des matrices jusqu'à 3750mm2. D'autres caractéristiques clés sont la technologie Dynamic-Etch, une capacité de modélisation physique avancée pour optimiser le processus de gravure pour les applications DVD ; Micron-Accuracy Leveling (MAL), une technologie unique de compensation de la hauteur des traces de crête et de vallée pour un contrôle précis des processus de gravure ; et Wafer Changer extensible (CEE), un système de manutention modulaire dans une architecture ouverte cohérente qui maximise la flexibilité des processus. La capacité de décompression de Vector Extreme est conçue pour minimiser la nécessité de déplacer la plaquette à travers le mandrin pendant le traitement, tout en réduisant la variation de pression à travers la plaquette. De plus, LAM RESEARCH/NOVELLUS VECTOR EXTREME comprend des capacités de propreté avancées telles que l'hydride haute température CVD (AHT-CVD) pour assurer une stabilité maximale du processus et une production minimale de particules. Avec des fonctions de contrôle de processus robustes telles que Active Process Monitoring (APM), Process Adaptateur Autotuning et Extended Recipe Based Interfacing (ERBI), il assure un réglage précis avec plusieurs cibles pour une optimisation facile des processus de gravure. NOVELLUS VECTOR EXTREME offre fiabilité et robustesse, avec une large gamme de fonctionnalités pour répondre aux exigences des appareils semi-conducteurs les plus exigeants d'aujourd'hui. Avec sa technologie de pointe, son haut débit et sa configurabilité, LAM RESEARCH Vector Extreme est le choix idéal pour tous vos besoins de gravure et d'ashing dans l'industrie des semi-conducteurs.
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