Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Kiyo45 #9255639 à vendre en France

LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Kiyo45
ID: 9255639
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2013
Etcher, 12" 2013 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Kiyo45 est un graveur/asher utilisé dans la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs microélectroniques. Ce graveur/asher avancé est conçu pour fournir des résultats de haute qualité avec une répétabilité maximale et un temps d'arrêt minimum. Le système est spécialement conçu pour des taux de gravure/cendres élevés, avec des caractéristiques avancées pour une haute sélectivité des particules et une planéité des plaquettes. ONTRAK 2300 Kiyo45 a une conception efficace de la chambre de processus, ce qui permet d'assurer un débit maximal. La chambre contient des cibles spécialisées pour divers processus de gravure et de cueillette, ainsi que de multiples composants, qui fournissent des résultats optimisés différents. Ce graveur-asher est également équipé de capteurs optiques et de systèmes d'alignement de vision pour s'assurer que le substrat est placé à l'emplacement précis. La sélectivité avancée des particules de cet etcher/asher lui a permis d'atteindre des taux d'élimination supérieurs. La technologie des capteurs intégrés permet une prédiction beaucoup plus précise des taux de gravure/cendres qu'auparavant, tout en permettant un meilleur contrôle des caractéristiques des particules. Cette technologie permet d'optimiser les processus de gravure/cendres et de sélectionner rapidement et avec précision le matériau désiré. LAM RESEARCH 2300 Kiyo45 dispose également d'un module intégré de planéité de la plaquette, qui assure la stabilité pendant les processus de gravure/cendres et permet de s'assurer que la plaquette entière est couverte uniformément. Ce système est conçu pour assurer des résultats répétables et une couverture uniforme de toute la surface, même sur les plaquettes les plus difficiles. Dans l'ensemble, 2300 Kiyo45 offre des performances supérieures avec ses capacités de gravure et de cendrage avancées. Sa conception efficace de la chambre de processus, ainsi que ses capteurs optiques, permettent un débit plus élevé, et ses systèmes de ciblage intégrés garantissent une fiabilité maximale. De plus, ses modules avancés de sélectivité des particules et de planéité des plaquettes donnent des résultats supérieurs, ce qui permet d'obtenir les résultats souhaités avec un minimum de temps d'arrêt.
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