Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK 2300e4 Kiyo EX #293804189 à vendre en France

ID: 293804189
Poly etcher, parts system.
LAM RESEARCH/ONTRAK 2300e4 Kiyo EX est un équipement de pointe de graveur/asher qui intègre les dernières avancées technologiques pour fournir des capacités de traitement supérieures dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce système est spécialement conçu pour répondre aux exigences exigeantes des environnements de production à haut volume tout en garantissant précision, fiabilité et efficacité. Principales caractéristiques : 1. Capacité de gravure plasma : ONTRAK 2300e4 Kiyo EX est équipé d'une technologie de gravure plasma avancée qui permet d'éliminer avec précision le matériau des substrats semi-conducteurs. L'unité utilise une combinaison de plasma à haute énergie et de gaz réactifs pour graver sélectivement des zones spécifiques sur la plaquette, ce qui permet d'affiner les profils de gravure et les profondeurs. 2. Fonctionnalité Ashing : En plus de la gravure plasma, la machine Kiyo EX offre également des capacités ashing pour l'élimination des résidus et le nettoyage de surface. Le processus de soutirage comprend l'utilisation de plasma à haute énergie pour éliminer les contaminants organiques et les sous-produits de la surface de la plaquette, assurant ainsi un rendement et une performance optimaux du dispositif. 3. Flexibilité du processus : L'outil Kiyo EX est très polyvalent et supporte une large gamme de recettes de processus pour les applications de gravure et d'ashing. Les utilisateurs peuvent facilement programmer et personnaliser des paramètres de processus tels que les débits de gaz, la pression de la chambre et la puissance rf pour atteindre les vitesses de gravure souhaitées et la sélectivité avec une répétabilité exceptionnelle. 4. Uniformité et contrôle : L'actif est conçu pour fournir une excellente uniformité de processus sur toute la surface de la plaquette, assurant des profils de gravure et des caractéristiques d'appareil cohérents de la plaquette à la plaquette. Les mécanismes avancés de contrôle des processus, tels que la détection du point d'extrémité et la surveillance en temps réel, permettent un contrôle précis du processus de gravure et améliorent la stabilité globale du processus. 5. Débit et productivité : Le modèle Kiyo EX est conçu pour un fonctionnement à haut débit, capable de traiter plusieurs plaquettes simultanément pour maximiser la productivité dans un environnement de production. L'équipement comprend des temps de cycle rapides, des mécanismes de manutention efficaces des plaquettes et des séquences de processus automatisées pour minimiser les temps d'arrêt et augmenter l'efficacité globale de la fabrication. 6. Fiabilité et entretien : ONTRAK est connu pour produire des équipements de traitement des semi-conducteurs de haute qualité et fiables, et le système Kiyo EX ne fait pas exception. L'unité est construite avec des composants robustes, des diagnostics avancés et des capacités de surveillance à distance pour assurer le temps disponible et minimiser les besoins de maintenance, contribuant à un coût de propriété moindre. 7. Compatibilité et intégration : La machine Kiyo EX est conçue pour s'intégrer parfaitement dans les lignes de fabrication de semi-conducteurs existantes, offrant une compatibilité avec les interfaces d'automatisation et les protocoles logiciels standard de l'industrie. Cela facilite la configuration, le fonctionnement et l'échange de données avec d'autres équipements dans l'environnement de production, simplifiant le flux de travail et améliorant l'efficacité globale de la fabrication. En conclusion, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX est un outil de pointe de graveur/asher qui combine une technologie avancée de traitement du plasma, un contrôle supérieur des processus et des caractéristiques de productivité élevées pour répondre aux exigences rigoureuses de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Avec ses capacités innovantes, sa flexibilité et sa fiabilité, l'actif Kiyo EX est une solution idéale pour des environnements de production à haut volume nécessitant des processus précis et efficaces d'enlèvement des matériaux et de nettoyage de surface.
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