Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9098962 à vendre en France

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ID: 9098962
Poly etcher, 12" Signal tower: (3) Colors SMIF(EFEM) (3) Poly etch chambers (1) MWAVE STRPR (3) Load ports (1) ATM Robot (1) Buffer station (25) Slots (1) Aligner (2) Load locks (4) Slot cool chamber Megatran7 / Broooks transfer robot Etch chamber TM Pressure gauge: HPS Series907 / MKS TM Pressure control: MKS Series640 LL Pressure gauge: Hasting Model of chamber: 2300 Metal Model of pressure gauge: MKS, 0.1Torr Model of throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT Model of turbo pump: STP-XA2703CV/Edwards Model of TCP RF generator: APEX1513 / AE Model of bias RF generator: APEX1513 / AE MW Chamber Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR Model of throttle gate valve: MKA, 253B-24836 Model of vaporizer: MKS, VODMB33CRIBE Model of MW generator: Revolution, 7690LAM-23 configuration of MFC: Ar 2SLM, O2 5SLM, N2 1SLM Configuration of gas panel, etch chamber Type of gas panel: 16-Line IGS block (16) Gas channel Model of MFC: SEC-Z313M Configuration of gas: CF4 50sccm O2 20sccm CL2 200sccm CH2F2 50sccm HBr 500sccm He 500sccm O2 200sccm H2 100sccm SF6 10sccm Ar 500sccm HBr 50 sccm C2F6 200sccm CF4 200sccm SF6 200sccm N2 100sccm CHF6 200sccm Configuration of AC rack: 208VAC 3ph (4) Wires 400 AMPS 50/60Hz Missing parts: Load ports 2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 Etcher/Asher est un matériel conçu pour graver ou déposer des films minces sur un substrat. L'unité est un équipement monocouche et monocouche qui utilise la technologie des sources de plasma pour obtenir des résultats de gravure et de cueillette supérieurs. Il est capable de manipuler une variété de tailles de plaquettes, de 2 « (50 mm) à 8 » (203,2 mm) de diamètre. La chambre de procédé est une enceinte étanche en acier inoxydable équipée d'une paroi supérieure en quartz. Cela permet un chauffage et un refroidissement rapides, et assure la compatibilité avec les matières corrosives et dangereuses. La chambre a un design unique, double plaque qui permet une meilleure isolation et un meilleur contrôle du processus. Il est également équipé de transducteurs de pression sophistiqués pour maintenir l'intégrité et le rendement du processus. ONTRAK Kiyo 45 offre également une technologie de source de plasma de pointe qui produit une large gamme de niveaux de puissance et la flexibilité de la recette de processus. Il permet une gravure et un cendrage simultanés sans endommagement du substrat, et offre une gravure et un dépôt de couches ultra minces, ainsi qu'une gravure directionnelle et anisotrope. L'unité est également équipée d'un système de vide robuste, permettant une évacuation rapide et des temps de traitement optimisés. LAM RESEARCH Kiyo 45 dispose d'un haut niveau d'automatisation et de contrôle de l'opérateur. Il offre une interface utilisateur graphique intuitive (UI) et des fonctionnalités complètes de gestion des données. Il fournit un suivi et un suivi avancés des processus, ainsi qu'un rappel détaillé des recettes et une répétabilité. Couplé à un kit de processus ONTRAK compatible, le Kiyo 45 offre une solution complète de gravure et d'ashing. Cela comprend une alimentation électrique, une unité de distribution de gaz, une machine visuelle, un outil RF, une armoire électronique et des accessoires supplémentaires. Avec sa puissante combinaison de matériel et de logiciels, LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 peut graver et déposer des films minces pour obtenir des résultats supérieurs.
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