Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9098962 à vendre en France
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Vendu
ID: 9098962
Poly etcher, 12"
Signal tower: (3) Colors
SMIF(EFEM)
(3) Poly etch chambers
(1) MWAVE STRPR
(3) Load ports
(1) ATM Robot
(1) Buffer station
(25) Slots
(1) Aligner
(2) Load locks
(4) Slot cool chamber
Megatran7 / Broooks transfer robot
Etch chamber
TM Pressure gauge: HPS Series907 / MKS
TM Pressure control: MKS Series640
LL Pressure gauge: Hasting
Model of chamber: 2300 Metal
Model of pressure gauge: MKS, 0.1Torr
Model of throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT
Model of turbo pump: STP-XA2703CV/Edwards
Model of TCP RF generator: APEX1513 / AE
Model of bias RF generator: APEX1513 / AE
MW Chamber
Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR
Model of throttle gate valve: MKA, 253B-24836
Model of vaporizer: MKS, VODMB33CRIBE
Model of MW generator: Revolution, 7690LAM-23
configuration of MFC: Ar 2SLM, O2 5SLM, N2 1SLM
Configuration of gas panel, etch chamber
Type of gas panel: 16-Line IGS block
(16) Gas channel
Model of MFC: SEC-Z313M
Configuration of gas:
CF4 50sccm
O2 20sccm
CL2 200sccm
CH2F2 50sccm
HBr 500sccm
He 500sccm
O2 200sccm
H2 100sccm
SF6 10sccm
Ar 500sccm
HBr 50 sccm
C2F6 200sccm
CF4 200sccm
SF6 200sccm
N2 100sccm
CHF6 200sccm
Configuration of AC rack:
208VAC 3ph (4) Wires 400 AMPS 50/60Hz
Missing parts: Load ports
2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 Etcher/Asher est un matériel conçu pour graver ou déposer des films minces sur un substrat. L'unité est un équipement monocouche et monocouche qui utilise la technologie des sources de plasma pour obtenir des résultats de gravure et de cueillette supérieurs. Il est capable de manipuler une variété de tailles de plaquettes, de 2 « (50 mm) à 8 » (203,2 mm) de diamètre. La chambre de procédé est une enceinte étanche en acier inoxydable équipée d'une paroi supérieure en quartz. Cela permet un chauffage et un refroidissement rapides, et assure la compatibilité avec les matières corrosives et dangereuses. La chambre a un design unique, double plaque qui permet une meilleure isolation et un meilleur contrôle du processus. Il est également équipé de transducteurs de pression sophistiqués pour maintenir l'intégrité et le rendement du processus. ONTRAK Kiyo 45 offre également une technologie de source de plasma de pointe qui produit une large gamme de niveaux de puissance et la flexibilité de la recette de processus. Il permet une gravure et un cendrage simultanés sans endommagement du substrat, et offre une gravure et un dépôt de couches ultra minces, ainsi qu'une gravure directionnelle et anisotrope. L'unité est également équipée d'un système de vide robuste, permettant une évacuation rapide et des temps de traitement optimisés. LAM RESEARCH Kiyo 45 dispose d'un haut niveau d'automatisation et de contrôle de l'opérateur. Il offre une interface utilisateur graphique intuitive (UI) et des fonctionnalités complètes de gestion des données. Il fournit un suivi et un suivi avancés des processus, ainsi qu'un rappel détaillé des recettes et une répétabilité. Couplé à un kit de processus ONTRAK compatible, le Kiyo 45 offre une solution complète de gravure et d'ashing. Cela comprend une alimentation électrique, une unité de distribution de gaz, une machine visuelle, un outil RF, une armoire électronique et des accessoires supplémentaires. Avec sa puissante combinaison de matériel et de logiciels, LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 peut graver et déposer des films minces pour obtenir des résultats supérieurs.
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